Вышедшие номера
Особенности формирования CoSi2 при двухстадийном быстром термическом отжиге структур Ti/Co/Ti/Si(100)
Рудаков В.И.1, Денисенко Ю.И.1, Наумов В.В.1, Симакин С.Г.1
1Ярославский филиал Физико-технологического института РАН
Email: valeryrudakov@rambler.ru
Поступила в редакцию: 30 июля 2010 г.
Выставление онлайн: 20 января 2011 г.

Для формирования CoSi2 в качестве исходной была выбрана структура Ti(8 nm)/Co(10 nm)/Ti(5 nm)/Si(100)-подложка, полученная магнетронным распылением. После двухстадийного быстрого термического отжига (БТО) в азоте образцы структур на каждой стадии исследовались с помощью времяпролетной ВИМС, ОЭС, СЭМ и рентгеновского энергодисперсионного анализа. В результате БТО-1 (550oC, 45 s) образуется поверхностный "жертвенный" слой TiNxOy с захватом остаточной примеси (O, C и N) из внутренних границ раздела исходной структуры. После химического удаления слоев TiNxOy и обогащения кобальтом в результате БТО-2 (830oC, 25 s) формировалась низкорезистивная фаза CoSi2.