Впервые продемонстрирована возможность изготовления субмикронных металлических структур на подложке с помощью метода селективного удаления атомов кислорода. Получены структуры металлических линий из молибдена шириной 0.35 mum и толщиной 20 nm в результате облучения протонами с энергией 3 keV пленки оксида молибдена на кремниевой подложке через маску из электронного резиста с последующим удалением резиста и участков невосстановленного оксида. Отмечается, что указанный способ может быть использован для создания структур произвольной геометрии на различных подложках. PACS: 85.40.Hp, 61.80.Jh, 85.40.Ls

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.