Вышедшие номера
Влияние функции распределения по импульсам эмитируемых электронов на стационарные состояния релятивистского диода Бурсиана
Кузнецов В.И.1, Бакалейников Л.А.1, Флегонтова Е.Ю.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: victor.kuznetsov@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 20 апреля 2026 г.
В окончательной редакции: 23 сентября 2026 г.
Принята к печати: 23 октября 2026 г.
Выставление онлайн: 12 ноября 2026 г.

Изучено влияние величины разброса по импульсам электронов, вылетающих с эмиттера, Δp на стационарные состояния релятивистского диода Бурсиана. Получены аналитические выражения для концентрации электронов в зависимости от величины разброса и найдены стационарные решения. Показано, что при малой величине Δp у диода, как и в нерелятивистском случае, существует область значений внешних параметров, которой соответствуют три стационарных решения. Показано, что с увеличением Δp происходит сильное сужение этой области. Изучено влияние релятивистского фактора на эмиттере на размеры области неоднозначности решений. Ключевые слова: плазменный диод, пучки релятивистских электронов, стационарные состояния, функция распределения электронов по импульсам.
  1. В.Р. Бурсиан, В.И. Павлов, Журн. Рус. физ.-хим. общ-ва, 55 (1-3), 71 (1923)
  2. E.A. Coutsias, J. Plasma Phys., 31 (2) 313 (1984). DOI: 10.1017/S0022377800001641
  3. И.М. Алешин, Л.С. Кузьменков, Вестн. Моск. ун-та. Сер. 3. Физика. Астрономия, 35 (2), 46 (1994). [I.M. Aleshin, L.S. Kuz'menkov, Mosc. Univ. Phys. Bull., 49 (3), 43 (1994).]
  4. В.И. Кузнецов, А.Я. Эндер, Физика плазмы, 36 (3), 248 (2010). [V.I. Kuznetsov, A.Ya. Ender, Plasma Phys. Rep., 36 (3), 226 (2010). DOI: 10.1134/S1063780X10030049]
  5. A.Ya. Ender, V.I. Kuznetsov, H. Schamel, Phys. Plasmas, 18, 033502 (2011). DOI: 10.1063/1.3562115
  6. А.Е. Дубинов, В.Д. Селемир, Радиотехника и электроника, 47 (6), 645 (2002). [А.Е. Dubinov, V.D. Selemir, J. Commun. Technol. Electron., 47 (6), 575 (2002).]
  7. L.A. Bakaleinikov, V.I. Kuznetsov, E.Yu. Flegontova, Phys. Plasmas, 32 (2), 022303 (2025). DOI: 10.1063/5.0252013