Анализ рабочих параметров дугового разряда в плазмотроне переменного тока с кольцевыми электродами
Дудник Ю.Д.
1, Сафронов А.А.
1, Ширяев В.Н.
1, Васильев М.И.
1, Васильева О.Б.
11Институт электрофизики и электроэнергетики РАН, Санкт-Петербург, Россия

Email: julia_dudnik-s@mail.ru
Поступила в редакцию: 28 апреля 2026 г.
В окончательной редакции: 1 сентября 2026 г.
Принята к печати: 23 октября 2026 г.
Выставление онлайн: 12 ноября 2026 г.
Приведены результаты исследования однофазного плазмотрона с кольцевыми электродами мощностью до 10 kW. Эксперименты проводились с использованием медных кольцевых электродов в диапазонах расхода плазмообразующего газа (воздуха) до 3.14 g/s. Производилась запись осциллограмм тока и напряжения электрической дуги с одновременной скоростной видеосъемкой дугового разряда. Установлен характер привязки дуги и проведен анализ временных и пространственных характеристик дугового разряда. Определена температура возбуждения атомов плазмы Cu I по линиям излучения 510.554, 515.32, 521.82 и 570.024 nm: T=6700± 500 K. Ключевые слова: плазмотрон, переменный ток, кольцевые электроды, температура.
- F. Zhou, H. Ma, H. Chen, X. Zhu, X. Liu, Acta Aerodyn. Sin., 40 (5), 15 (2022). DOI: 10.7638/kqdlxxb-2021.0176
- А.В. Чистолинов, Р.В. Якушин, В.М. Чепелев, А.С. Тюфтяев, М.Х. Гаджиев, Письма в ЖТФ, 51 (4), 8 (2025). DOI: 10.61011/PJTF.2025.04.59834.20058 [A.V. Chistolinov, R.V. Yakushin, V.M. Chepelev, A.S. Tyuftyaev, M.Kh. Gadzhiev, Tech. Phys. Lett., 51 (2), 63 (2025). DOI: 10.61011/TPL.2025.02.60634.20058]
- М.Х. Гаджиев, А.С. Тюфтяев, Ю.М. Куликов, М.А. Саргсян,Д.И. Юсупов, Н.А. Демиров, Э.Е. Сон, Черная металлургия. Бюл. научно-технической экономической информации, 77 (5), 587 (2021). DOI: 10.32339/0135-5910-2021-5-587-592
- М.Х. Гаджиев, М.В. Ильичев, Д.И. Юсупов, А.С. Тюфтяев, Электрометаллургия, N 9, 2 (2021). DOI: 10.31044/1684-5781-2021-0-9-2-9 [M.Kh. Gadzhiev, M.V. Il'ichev, D.I. Yusupov, A.S. Tyuftyaev, Russ. Metall., 2021, 1504 (2021). DOI: 10.1134/S0036029521120089]
- J. Diab, V. Rohani, L. Fulcheri, Plasma Chem. Plasma Process., 44 (2), 687 (2024). DOI: 10.1007/s11090-024-10457-9
- X. Cao, R. He, H. Xu, B. Huang, Y. Ma, M. Zhao, Plasma Chem. Plasma Process., 41 (4), 1169 (2021). DOI: 10.1007/s11090-021-10178-3
- С.Г. Ребров, А.Н. Голиков, И.А. Федоров, Прикладная физика, N 2, 103 (2023). DOI: 10.51368/1996-0948-2023-2-103-108
- В.В. Кошлаков, С.Г. Ребров, А.Н. Голиков, И.А. Федоров, Прикладная физика, N 4, 32 (2021). DOI: 10.51368/1996-0948-2021-4-32-39
- А.А. Сафронов, Ю.Д. Дудник, Изв. Академии электротехнических наук РФ, N 3 (25), 83 (2021)
- Ю.Д. Дудник, В.Е. Кузнецов, А.А. Сафронов, В.Н. Ширяев, О.Б. Васильева, Письма в ЖТФ, 50 (24), 49 (2024). DOI: 10.61011/PJTF.2024.24.59438.6514k [Yu.D. Dudnik, V.E. Kuznetsov, A.A. Safronov, V.N. Shiryaev, O.B. Vasilieva, Tech. Phys. Lett., 50 (12), 125 (2024). DOI: 10.61011/TPL.2024.12.60372.6514k]
- А.А. Сафронов, Ю.Д. Дудник, М.И. Васильев, В.Н. Ширяев, О.Б. Васильева, А.В. Никонов, Г.В. Наконечный, Прикладная физика, N 1, 59 (2026). DOI: 10.51368/1996-0948-2026-1-59-65