Вышедшие номера
Рентгеновское измерение тензора микродисторсии и анализ на его основе дислокационной структуры толстых слоев GaN, полученных методом хлоргидридной газофазной эпитаксии
Ратников В.В.1, Кютт Р.Н.1, Шубина Т.В.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 27 апреля 2000 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 2000 г.

Методами двух- и трехкристальной (ТКД) рентгеновской дифрактометрии изучена дислокационная структура толстых GaN слоев, выращенных хлоргидридной газофазной эпитаксией (ХГЭ) как на сапфире, так и на тонком GaN слое, выращенном методом металлорганического синтеза (МОС). Из измерений дифрагированной интенсивности в геометриях Брэгга и Лауэ получены пять компонент тензора микродисторсии <varepsilonij>, размеры областей когерентного рассеяния вдоль поверхности образцов и по нормали к ней. На их основе проведен анализ типа и геометрии расположения дислокаций и проведен расчет плотности основных типов дислокаций. При росте на тонком слое GaN уменьшается плотность как вертикальных винтовых, так и краевых дислокаций (в 1.5-3 раза). Дифракционные характеристики толстого слоя на МОС-GaN подложке позволяют считать его монокристаллическим с включениями микроскристаллических областей. Работа проводилась при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (проекты N 99-02-17103 и 00-02-16760), а также Программы Министерства науки Российской Федерации "Физика наноструктур" (97-2014а).
  1. R.J. Molnar, W. Gotz, L.T. Romano, N.M. Johnson. J. Gryst. Growth. 178, 147 (1997)
  2. L.T. Romano, B.S. Krusor, R.J. Molnar. Appl. Phys. Lett. 71, 2283 (1997)
  3. H. Siegle, A. Hoffman, L. Eckey, C. Thomsen, J. Christen, F. Bertram, D. Shmidt, D. Rudloff, K. Hiramatsu. Appl. Phys. Lett. 71, 2490 (1998)
  4. Y. Golan, X.H. Wu, J.S. Speck, R.P. Vaudo, V.M. Phanse. Appl. Phys. Lett. 73, 3090 (1998)
  5. T. Pashkova, S. Tungasmita, E. Valcheva, E.B. Svedberg, B. Arnautov, S. Evtimova, P.A. Persson, A. Henry, R. Beccard, M. Heuken, B. Monemar. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. (2000), в печати
  6. E.M. Goldys, T. Pashkova, I.G. Ivanov, B. Arnaudov, B. Monemar. Appl. Phys. Lett. 73, 3583 (1998)
  7. T. Metzger, R. Hopler, E. Born, O. Ambacher, M. Stutzmann, R. Stommer, M. Schuster, H. Gobel, S. Christiansen, M. Albrecht, H.P. Strunk. Phil. Mag. A77, 1013 (1998)
  8. R.N. Kyutt, T.S. Argunova. Nuovo Cimento D19, 267 (1997)
  9. Р.Н. Кютт, В.В. Ратников, Г.Н. Мосина, М.П. Щеглов. ФТТ 41, 1, 30 (1999)
  10. G.K. Williamson, W.H. Hall. Acta metall. 1, 22 (1953)
  11. V. Srikant, J.S. Speck, D.R. Clarke. J. Appl. Phys. 82, 9, 4286 (1997)
  12. M.C. Lee, H.-C. Lin, Y.-C. Pan, C.-K. Shu, J. Ou, W.-H. Chen, W.-K. Chen. Appl. Phys. Lett. 73, 2606 (1998)
  13. K. Kobayashi, A. Yamaguchi, S. Kimura, H. Sanakawa, A. Kimura, A. Usui. Jpn. Appl. Phys. 38, L611 (1999)
  14. C.O. Dunn, E.F. Koch. Acta metall. 5, 548 (1957)
  15. J.E. Ayers. J. Crystal Growth 135, 71 (1994)
  16. P.F. Fewster. J. Appl. Crystallogr. 22, 64 (1989)
  17. P.F. Fewster. Int. School of Crystallography: 23rd Course, X-ray and Neutron Dynamical Diffraction: Theory and Applications. Erice, Italy (1996). P. 287

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.