Вышедшие номера
UV-поглощение тонкопленочных систем RbAg4I5--RE (Sm, Yb)
Деспотули А.Л.1, Матвеева Л.А.1
1Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН, Черноголовка, Московская обл., Россия
Email: despot@ipmt-hpm.ac.ru
Поступила в редакцию: 15 мая 1998 г.
Выставление онлайн: 20 января 1999 г.

UV-спектры образцов, создаваемых вакуумным напылением тонких пленок Sm и Yb на пленки твердого электролита RbAg4I5 (300-350 K) толщиной 100-200 nm, содержат полосы сильного поглощения с максимумами в области 4.3 и 5.0 eV. После напыления Sm (~5 nm) ионная проводимость sigma образцов уменьшается с sigma0 до ~0.9sigma0, а параметр кристаллической решетки SE с 11.24 Angstrem до ~11.15 Angstrem. Полуширина рентгеновских отражений при этом возрастает с 0.5o до 0.8o. Дальнейший рост концентрации Sm в образцах изменяет картину рентгеновской дифракции. При этом увеличивается поглощение в области полос 4.3 и 5.0 eV, возникает новый край поглощения 3.8 eV, а sigma уменьшается до ~ 10-2sigma0. Предпологается существование генетической связи между UV-полосами сильного поглощения в высокодефектных серебро-галоидах системы RbAg4I5-Sm(Yb) и электронными переходами 4d10->4d95s в свободных ионах Ag+.