Диэлектрические свойства модифицированных слоев As2Se3<Bi>x
Кастро Р.А.1, Анисимова Н.И.1, Бордовский В.А.1, Грабко Г.И.1
1Российский государственный педагогический университет им. А.И. Герцена, Санкт-Петербург, Россия
Email: recastro@fromru.com
Поступила в редакцию: 19 июня 2008 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2009 г.
Приведен расчет диэлектрических параметров (диэлектрической проницаемости varepsilon и тангенса угла диэлектрических потерь tgsigma) для слоев As2Se3<Bi>x на основе релаксационных кривых поляризационного тока, измеренных при различных значениях напряженности приложенного электрического поля. Обнаружено значительное влияние примеси висмута на характер частотной зависимости varepsilon и tgdelta, что, вероятно, связано с существованием микронеоднородных областей с повышенной концентрацией примеси. PACS: 71.23.Cq, 71.55.Jv
- B.T. Kolomiets. Phys. Status Solidi 7, 359; 713 (1964)
- А.И. Губанов. ЖТФ 27, 2510 (1957)
- N.F. Mott. Adv. Phys. 16, 49 (1967)
- Н. Мотт, Э. Дэвис. Электронные процессы в некристалличеки веществах. Мир, М. (1982). 662 с
- R. Flasck, M. Izu, K. Sapru, T. Anderson, S.R. Ovshinsky, H. Fritzsche. Proc. 7th Int. Conf. Amorphous and liquid semicond. Edinburg, England (1977). P. 524
- В.Л. Аверьянов, Б.Т. Коломиец, В.М. Любин, О.Ю. Приходько. Письма в ЖТФ 6, 577 (1980)
- Б.Л. Гельмонт, К.Д. Цендин. ФТП 17, 6, 1040 (1983)
- З.У. Борисова. Е.А. Бычков, Ю.С. Тверьянович. Взаимодействие металлов с халькогенидными стеклами. Изд-во ЛГУ, Л. (1991). 95 с
- Л.П. Казакова, Э.А. Лебедев. ФТП 32, 803 (1998)
- C. Crevecoeur, H.J. De Wit. Solid State Commun. 9, 445 (1971)
- Г.А. Лущейкин. Методы исследования электрических свойств полимеров. Химия, М. (1980). 160 с
- П.Т. Орешкин. Физика полупроводников и диэлектриков. Высш. шк., М. (1977). 448 с
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.