Физика твердого тела
Авторам
Вышедшие номера
- 2024
- 2023
- 2022
- 2021
- 2020
- 2019
- 2018
- 2017
- 2016
- 2015
- 2014
- 2013
- 2012
- 2011
- 2010
- 2009
- 2008
- 2007
- 2006
- 2005
- 2004
- 2003
- 2002
- 2001
- 2000
- 1999
- 1998
- 1997
- 1996
- 1995
- 1994
- 1993
- 1992
- 1991
- 1990
- 1989
- 1988
Влияние предварительного окислительного отжига на свойства пористого кремния, пропитанного вольфрам-теллуритным стеклом, активированным Er и Yb
1Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, Россия 
2Научно-исследовательский физико-технический институт Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, Россия
2Научно-исследовательский физико-технический институт Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, Россия
Email: demidov@phys.unn.ru
Поступила в редакцию: 17 июля 2012 г.
Выставление онлайн: 20 января 2013 г.
Изучено влияние предварительного окислительного отжига пористого кремния (ПК) на фотолюминесценцию (ФЛ) при лазерной накачке на длинах волн 532 и 980 nm, ЭПР и поперечный транспорт тока структур на основе ПК с вплавленным вольфрам-теллуритным стеклом (ВТС), легированным Er и Yb. Показано, что такой отжиг и наличие нанокристаллов кремния (nc-Si) в ПК способствуют многократному усилению ФЛ как ионов Er в ВТС, так и nc-Si в ПК на длинах волн 750 и 1540 nm соответственно. При вплавлении ВТС в ПК подавляются Pb-центры безызлучательной рекомбинации, сохраняется дискретное туннелирование электронов сквозь nc-Si-гранулы в ПК. Работа выполнена при поддержке гранта РФФИ 08-02-97044р и в рамках АВЦП "Развитие научного потенциала высшей школы", ФЦП "Научные и научно-педагогические кадры инновационной России" на 2009-2013 гг.
- M. Fujii, M. Yoshida, S. Hayashi, K. Yamamoto. J. Appl. Phys. 84, 2, 4525 (1998)
- G. Franzo, D. Pacifici, V. Vinciguerra, F. Priolo, F. Iacona. J. Appl. Phys. Lett. 76, 16, 2167 (2000)
- P.G. Kik, M.L. Brongersma, A. Polman. J. Appl. Phys. Lett. 76, 17, 2325 (2000)
- M. Fujii, S. Hayashi, K. Yamamoto. J. Appl. Phys. Lett. 73, 21, 3108 (1998)
- A. Kozanecki, D. Kuritsyn, W. Jantsch. Opt. Mater. 28, 6--7, 850 (2006)
- A.O.G. Dikovska, P.A. Atanasov, M. Jimenez de Castro, A. Perea, J. Gonzalo, C.N. Afonso, J. Garcia Lopez. Thin Solid Films 500, 1--2, 336 (2005)
- Q. Song, Ch. Li, J. Li, W. Ding, S. Li, J. Xu, X. Deng, Ch. Song. Opt. Mater. 28, 1344 (2006)
- Е.С. Демидов, В.В. Карзанов, В.Г. Шенгуров. Письма в ЖЭТФ 67, 10, 794 (1998)
- Е.С. Демидов, Н.Е. Демидова. Вестн. ННГУ. Сер. ФТТ 1, 22 (2005)
- Е.С. Демидов, А.Н. Михайлов, А.И. Белов, М.В. Карзанова, Н.Е. Демидова, Ю.И. Чигиринский, А.Н. Шушунов, Д.И. Тетельбаум, О.Н. Горшков, Е.А. Европейцев. ФТТ 53, 12, 2294 (2011)
- J. Zhang, Sh. Dai, G. Wang, H. Sun, L. Zhang, L. Hu. J. Lumin. 115, 1--2, 45 (2005).
- Ю.М. Сорокин, В.С. Ширяев. Оптические потери в световодах. Изд-во ННГУ, Нижний Новгород (2000). 324 с
- Н.Е. Демидова. Автореф. канд. дис. ННГУ им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород (2010). 18 с
- Е.С. Демидов, Н.Е. Демидова, В.В. Карзанов, К.А. Марков, В.В. Сдобняков. ФТТ 51, 1894 (1997)
- Y. Ohishi, A. Mori, М. Yamada, H. Ono, T. Kanamori, T. Shimada. Tellurite glass optical amplifier and light source. Assignee: Nippon Telegraph and Telefon Corporation, Shinjuku-ku (JP). Patent USA, N: US 6,266,181 B1. 24.07.2001
- Н.Е. Алексеев, В.П. Гапонцев, М.Е. Жаботинский, В.Б. Кравченко, Ю.П. Рудницкий. Лазерные фосфатные стекла. Наука, М. (1980). С. 284
- A. Stesmans, V.V. Afanas'ev. J. Phys.: Cond. Matter. 10, 1, L19 (1998).
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
