Дифференциальная туннельная проводимость в лентах n-Bi2Te3-ySey, полученных спиннингованием расплава
Лукьянова Л.Н.
1, Макаренко И.B.
1, Усов О.А.
1, Новиков С.В.
1, Усов С.О.
1,21Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2НТЦ микроэлектроники РАН, Санкт-Петербург, Россия

Email: lidia.lukyanova@mail.ioffe.ru, igor.makarenko@mail.ioffe.ru, oleg.usov@mail.ioffe.ru, s.novikov@mail.ioffe.ru, s.usov@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 20 ноября 2025 г.
В окончательной редакции: 20 ноября 2025 г.
Принята к печати: 15 декабря 2025 г.
Выставление онлайн: 30 января 2026 г.
В лентах топологических изоляторов n-Bi2Te3-ySey (y=0.45), сформированных спиннингованием расплава, и монокристаллических образцах при y=0.3 исследованы спектры дифференциальной туннельной проводимости dIt/dU в зависимости от напряжения U, измеренные методом сканирующей туннельной спектроскопии (СТС). Из анализа спектров dIt/dU, пропорциональных электронной плотности состояний, были определены энергия точки Дирака ED и ее флуктуации Δ ED, положение краев валентной зоны EV и зоны проводимости EC, ширина запрещенной зоны Eg и поверхностная концентрация фермионов Дирака ns. В монокристалле n-Bi2Te2.7Se0.3 при более высокой ED ns=2.8·1012 cm-2, что на порядок выше, чем в лентах, при этом параметр мощности в монокристалле в три раза выше, чем в лентах. В запрещенной зоне исследованных термоэлектриков определены интервалы энергий уровней дефектов, относящиеся к донорным (TeBi) и акцепторным (BiTe) антиструктурным дефектам, а также вакансии теллура VTe и висмута VBi. Анализ СТС обнаружил дополнительные валентные подзоны VBi и подзоны проводимости CBi. Ключевые слова: твердые растворы на основе теллурида висмута, сканирующая туннельная спектроскопия, топологический изолятор, точка Дирака, дефекты.
- D.M. Rowe. Thermoelectric harvesting of low-temperature heat. In: Modules, Systems, and Applications in Thermoelectrics / Ed. D.M. Rowe. CRC Press, Boca Raton (2012)
- Thermoelectrics for Power Generation --- A Look at Trends in the Technology / Eds S. Skipidarov, M. Nikitin. ISBN 978-953-51-2846-5. InTech (2016). P. 576
- M.Z. Hasan, C.L. Kane. Rev. Mod. Phys. 82, 4, 3045 (2010)
- J.P. Heremans, R.J. Cava, N. Samarth. Nature Rev. Mater. 2, 10, 17049 (2017)
- P. Ngabonziza. Nanotechnol. 33, 19, 192001 (2022)
- Y.L. Chen, J.G. Analytis, J.-H. Chu, Z.K. Liu, S.-K. Mo, X.L. Qi, H.J. Zhang, D.H. Lu, X. Dai, Z. Fang, S.C. Zhang, I.R. Fisher, Z. Hussain, Z.-X. Shen. Sci. 325, 5937, 178 (2009)
- M.J. Gilbert. Commun. Phys. 4, 1, 70 (2021)
- G. Jiang, J. Yi, L. Miao, P. Tang, H. Huang, C. Zhao, S. Wen. Sci. Rep. 8, 1, 2355 (2018)
- L. Zhang, J. Liu, J. Li, Z. Wang, Y. Wang, Y. Ge, W. Dong, N. Xu, T. He, H. Zhang, W. Zhang. Laser. Photon. Rev. 14, 4, 1900409 (2020)
- W. Han, Y. Otani, S. Maekawa. npj Quantum Mater. 3, 1, 27 (2018)
- R. Sun, S. Yang, X. Yang, E. Vetter, D. Sun, N. Li, L. Su, Yan Li, Yang Li, Z. Gong, Z.-k. Xie, K.-y. Hou, Q. Gul, W. He, X.-q. Zhang, Z.-h. Cheng. Nano Lett. 19, 7, 4420 (2019)
- J. Zhu, T. Zhang, Y. Yang, R. Huang. Appl. Phys. Rev. 7, 1, 011312 (2020)
- A.A. Taskin, Z. Ren, S. Sasaki, K. Segawa, Y. Ando. Phys. Rev. Lett. 107, 1, 016801 (2011)
- Y. Ando. J. Phys. Soc. Jpn. 82, 10, 102001 (2013)
- H. Nam, Y. Xu, I. Miotkowski, J. Tian, Y.P. Chen, C. Liu, M.Z. Hasan, W. Zhu, G.A. Fiete, C.-K. Shih. J. Phys. Chem. Solids 128, 251 (2019)
- H. Beidenkopf, P. Roushan, J. Seo, L. Gorman, I. Drozdov, Y.S. Hor, R.J. Cava, A. Yazdani. Nature Phys. 7, 12, 939 (2011)
- J. Brede, M. Bagchi, A. Greichgauer, A. Uday, A. Bliesener, G. Lippertz, R. Yazdanpanah, A. Taskin, Y. Ando. Phys. Rev. Mat. 8, 10, 104202 (2024)
- B. Wiendlocha. J. Electron. Mater. 45, 7, 3515 (2016)
- K.-H. Jin, H.W. Yeom, S.-H. Jhi. Phys. Rev. B 93, 7, 075308 (2016)
- S. Wang, W. Xie, H. Li, X. Tang. Intermetallics 19, 7, 1024 (2011)
- S. Fan, J. Zhao, Q. Yan, J. Ma, H.H. Hng. J. Electron. Mater. 40, 7, 1018 (2011)
- C. Wagner, R. Franke, T. Fritz. Phys. Rev. B 75, 23, 235432 (2007)
- L.N. Lukyanova, I.V. Makarenko, O.A. Usov. J. Phys.: Condens. Matter 32, 46, 465701 (2020)
- W.S. Whitney, V.W. Brar, Y. Ou, Y. Shao, A.R. Davoyan, D.N. Basov, K. He, Q.-K. Xue, H.A. Atwater. Nano Lett. 17, 1, 255 (2017)
- P. Seifert, C. Kastl, A.W. Holleitner. In: Encyclopedia of Interfacial Chemistry: Surface Science and Electrochemistry, Material Aspects of 3D Topological Insulators / Ed. K. Wandelt. Elsevier (2018). P. 491-499
- H. Liu, S. Liu, Y. Yi, H. He, J. Wang. 2D Mater. 2, 4, 045002 (2015)
- K. Shrestha, V. Marinova, B. Lorenz, P.C.W. Chu. Phys. Rev. B 90, 24, 241111(R) (2014)
- Z. Ren, A.A. Taskin, S. Sasaki, K. Segawa, Y. Ando. Phys. Rev. B 82, 24, 241306(R) (2010)
- С.В. Новиков, А.В. Ли, А.А. Шабалдин, В.Н. Вербицкий, И.А. Няпшаев. ФТТ 67, 5, 800 (2025)
- T. Zhu, L. Hu, X. Zhao, J. He. Adv. Sci. 3, 7, 1600004 (2016)
- M.W. Oh, J.H. Son, B.S. Kim, S.D. Park, B.K. Min, H.W. Lee. J. Appl. Phys. 115, 13, 133706 (2014)