Вышедшие номера
Home » Физика твердого тела » Год 2024, выпуск 2 » Статья стр. 280
<<<>>>
Электросопротивление лазерно-индуцированного графена, синтезированного непрерывным CO2-лазером
Российский научный фонд, Проведение инициативных исследований молодыми учеными, 22-72-00017
Михеев К.Г. 1, Зонов Р.Г. 1, Чучкалов Н.В.1, Михеев Г.М. 1
1Удмуртский федеральный исследовательский центр Уральского отделения Российской академии наук, Ижевск, Россия
Email: k.mikheev@udman.ru, znv@udman.ru, chuchkalovkolya@gmail.com, mikheev@udman.ru
Поступила в редакцию: 15 января 2024 г.
В окончательной редакции: 15 января 2024 г.
Принята к печати: 17 января 2024 г.
Выставление онлайн: 14 февраля 2024 г.
PDF версия
Лазерно-индуцированный графен (ЛИГ) является новым перспективным материалом для широкого применения в электронике и медицине. В данной работе представлены результаты исследований по измерению его удельной электропроводности sigma, поверхностного сопротивления Rs, а также контактного сопротивления Rc и удельного контактного сопротивления rhoc медного электрода с пленочной структурой ЛИГ, синтезированной на поверхности полиимидной пленки методом пиролиза ее приповерхностного слоя при построчном сканировании сфокусированного пучка непрерывного углекислотного лазера. Установлено, что синтезированная пленочная структура ЛИГ обладает анизотропией электрического сопротивления, обусловленной построчным сканированием. Показано, что sigma, Rs, Rc и rhoc существенно зависят от плотности энергии F падающего лазерного излучения. Измеренные значения sigma, Rs и rhoc при увеличении F с 31 до 137 J/cm2 варьировались в диапазонах 7.7/10 S/cm, 26/49 Ω/sq и 9/43 Ω·mm2 соответственно. Ключевые слова: лазерно-индуцированный графен, поверхностное сопротивление, удельная электропроводность, контактное сопротивление, удельное контактное сопротивление.
  1. J. Lin, Z. Peng, Y. Liu, F. Ruiz-Zepeda, R. Ye, E.L.G. Samuel, M.J. Yacaman, B.I. Yakobson, J.M. Tour. Nature Commun. 5, 5714 (2014)
  2. R. Ye, D.K. James, J.M. Tour. Adv. Mater. 1803621, 1803621 (2019)
  3. K. Muzyka, G. Xu. Electroanalysis 34, 574 (2022)
  4. К.Г. Михеев, Р.Г. Зонов, Д.Л. Булатов, А.Е. Фатеев, Г.М. Михеев. Письма в ЖТФ 46, 51 (2020)
  5. K.G. Mikheev, R.G. Zonov, T.N. Mogileva, A.E. Fateev, G.M. Mikheev. Opt. Laser Technol. 141, 107143 (2021)
  6. A. Velasco, Y.K. Ryu, A. Hamada, A. de Andres, F. Calle, J. Martinez. Nanomaterials 13, 788 (2023)
  7. T. Feurer, R. Sauerbrey, M.C. Smayling, B.J. Story. Appl. Phys. A 56, 275 (1993)
  8. B. Kulyk, B.F.R. Silva, A.F. Carvalho, P. Barbosa, A.V. Girao, J. Deuermeier, A.J.S. Fernandes, F.M.L. Figueiredo, E. Fortunato, F.M. Costa. Adv. Mater. Technol. 2022, 2101311 (2022)
  9. C.T. Long, J.H. Oh, A.D. Martinez, C.I. Sanchez, A.Sarmah, K. Arole, M.T. Rubio, M.J. Green. Carbon 200, 264 (2022)
  10. S. Remesh, M. Vasudevan, V. Perumal, M. Ovinis, S. Karuppanan, T.N.J.I. Edison, P.B. Raja, M.N.M. Ibrahim, C.H. Voon, N. Arumugam, R.S. Kumar. J. Environ. Chem. Eng. 11, 110600 (2023)
  11. A. Kaidarova, J. Kosel. IEEE Sens. J. 21, 12426 (2021)
  12. P. Xue, Z. Huang, C. Chen. Lubricants 10, 239 (2022)
  13. L. Cheng, W. Guo, X. Cao, Y. Dou, L. Huang, Y. Song, J. Su, Z. Zeng, R.Ye. Mater. Chem. Front. 5, 4874 (2021)
  14. H. Wang, Z. Zhao, P. Liu, X. Guo. Biosensors 12, 55 (2022)
  15. H. Zhang, Y. Zhang, C. Chen, P. Yu, L.-M. Wang, G. Li. ACS Appl. Mater. Interfaces 15, 15 (2023)
  16. Q. Zhang, F. Zhang, X. Liu, Z. Yue, X. Chen, Z. Wan. Adv. Mater. Technol. 8, 2300244 (2023)
  17. S.G. Jo, R. Ramkumar, J.W. Lee. Chem. Sus. Chem. e202301146 (2023)
  18. S. Xi, X.-W. Gao, X.-M. Cheng, H.-L. Liu. New Carbon Mater. 38, 913 (2023)
  19. A.V. Syugaev, R.G. Zonov, K.G. Mikheev, A.N. Maratkanova, G.M. Mikheev. J. Phys. Chem. Solids 181, 111533 (2023)
  20. Y.P. Suhorukov, A.V. Telegin, K.G. Mikheev, R.G. Zonov, L.I. Naumova, G.M. Mikheev. Opt. Mater. (Amsterdam) 133, 112957 (2022)
  21. Y. Wang, C. Han, Y. Zhou, C. Ke, Y. Fan, Y. Yang, Z. Chen, Y.S. Wang. Carbon Trends 11, 100255 (2023)
  22. J. Liu, H. Ji, X. Lv, C. Zeng, H. Li, F. Li, B. Qu, F. Cui, Q. Zhou. Microchim. Acta 189, 54 (2022)
  23. S.Y. Jeong, J.U. Lee, S.M. Hong, C.W. Lee, S.H. Hwang, S.C. Cho, B.S. Shin. Nanomaterials 11, 951 (2021)
  24. Z. Wan, N.T. Nguyen, Y. Gao, Q. Li, Sustain. Mater. Technol. 25, e00205 (2020)
  25. L. Cheng, G. Fang, L. Wei, W. Gao, X. Wang, Z. Lv, W. Xu, C. Ding, H. Wu, W. Zhang, A. Li. ACS Appl. Nano Mater. 6, 7290 (2023)
  26. R. Rahimi, M. Ochoa, W. Yu, B. Ziaie. ACS Appl. Mater. Interfaces 7, 4463 (2015)
  27. Y. Zou, M. Zhong, S. Li, Z. Qing, X. Xing, G. Gong, R. Yan. Polymers (Basel) 15, 3553 (2023)
  28. F.J. Romero, A. Salinas-Castillo, A. Rivadeneyra, A. Albrecht, A. Godoy, D.P. Morales, N. Rodriguez. Nanomaterials 8, 517 (2018)
  29. D.K. Schroder, D.L. Meier. IEEE Trans. Electron Devices 31, 637 (1984)
  30. К.Г. Михеев, Р.Г. Зонов, А.В. Сюгаев, Д.Л. Булатов, Г.М. Михеев. ФТТ 64, 587 (2022)
  31. К.Г. Михеев, А.В. Сюгаев, Р.Г. Зонов, Д.Л. Булатов, Г.М. Михеев. ФТТ 65, 353 (2023)
  32. K.G. Mikheev, T.N. Mogileva, A.E. Fateev, N.A. Nunn, O.A. Shenderova, G.M. Mikheev. Appl. Sci. 10, 3329 (2020)
  33. G.K. Reeves, H.B. Harrison. IEEE Electron Device Lett. EDL-3, 111 (1982)
  34. X.L. Duy, Z. Peng, Y. Li, J. Zhang, Y. Ji, J.M. Tour. Carbon 126, 472 (2018)
  35. M. Liu, J.N. Wu, H.Y. Cheng. Sci. China Technol. Sci. 65, 41 (2022)
  36. L.M. Malard, M.A. Pimenta, G. Dresselhaus, M.S. Dresselhaus. Phys. Rep. 473, 51 (2009)
  37. I.R. Hristovski, L.A. Herman, M.E. Mitchell, N.I. Lesack, J. Reich, J.F. Holzman. Nanomaterials 12, 1241 (2022)
  38. B. Kulyk, B. Silva, A. Carvalho, S. Silvestre, A. Fernandes, R. Martins, E. Fortunato, F. Costa. ACS Appl. Mater. Interfaces 13, 10210 (2021)
  39. J.L. Beckham, J.T. Li, M.G. Stanford, W. Chen, E.A. McHugh, P.A. Advincula, K.M. Wyss, Y. Chyan, W.L. Boldman, P.D. Rack, J.M. Tour. ACS Nano 15, 8976 (2021)
  40. A. Minhas-Khan, S. Nambi, G. Grau. Carbon 181, 310 (2021)
  41. J.D. Kim, T. Kim, J. Pak. Trans. Korean Inst. Electr. Eng. 67, 406 (2018)
  42. J. de la Roche, I. Lopez-Cifuentes, A. Jaramillo-Botero. Carbon Lett. 33, 587 (2023)
  43. H. Tetik, E. Markgraf, K. Kato, V.N. Chan, M.H. Malakooti. Flex. Print. Electron. 8, 035001 (2023)
  44. Y.H. Yen, C.S. Hsu, Z.Y. Lei, H.J. Wang, C.Y. Su, C.L. Dai, Y.C. Tsai. Micromachines 13, 1220 (2022)
  45. K.G. Mikheev, A.E. Fateev, R.G. Zonov, D.L. Bulatov, G.M. Mikheev. J. Phys. Conf. Ser. 1695, 012113 (2020)
  46. Г.М. Михеев, А.С. Саушин, О.Ю. Гончаров, Г.А. Дорофеев, Ф.З. Гильмутдинов, Р.Г. Зонов. ФТТ 56, 2212 (2014)
  47. Г.М. Михеев, А.С. Саушин, В.В. Ванюков, К.Г. Михеев, Ю.П. Свирко. ФТТ 58, 2262 (2016)
  48. G.M. Mikheev, A.S. Saushin, V.V. Vanyukov, K.G. Mikheev, Y.P. Svirko. Nanoscale Res. Lett. 12, 39 (2017)
  49. E.L. Ivchenko. Optical Spectroscopy of Semiconductor Nanostructures. Springer (2004)
  50. Г.М. Михеев, Р.Г. Зонов, А.Н. Образцов, Ю.П. Свирко, А.П. Волков. Приборы и техника эксперимента 84 (2005)
  51. R. Zonov, A. Fateev, A. Obraztsov, G. Mikheev. Phys. Status Solidi B 260, 2200540 (2023).

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель

© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme