Исследованы слои GaMnAs, изготовленные методом импульсного лазерного нанесения в вакууме на подложках полуизолирующего GaAs. В процессе создания структур варьировалась температура подложки в интервале от 200 до 350^oC, а толщина слоев составила ~ 50 nm. Образцы изготовленных структур подвергались отжигу импульсами эксимерного KrF-лазера. Анализ спектров комбинационного рассеяния отожженных образцов с использованием аппроксимации их функциями Лоренца показал, помимо пиков в области LO- и ТО-мод GaAs, наличие связанной фонон-плазмонной моды. В результате отжига наблюдается значительное возрастание дырочной проводимости слоев (сопротивление уменьшается от значений R_s~10⁷-10⁹ Ω до R_s~ 900-3000 Ω). Существенным образом изменяется вид магнитополевой зависимости намагниченности при комнатной температуре: происходит переход от нелинейной характеристики с петлей гистерезиса для исходного образца (появляющейся вследствие присутствия в нем включений соединения MnAs c температурой Кюри выше комнатной) к линейному характеру поведения для отожженного образца. Изучение гальваномагнитных свойств при температурах от 10 до 150 K показывает существование ферромагнетизма в слоях GaMnAs с температурой Кюри, достигающей 90 K. Наблюдаемые эффекты позволяют заключить, что применяемое импульсное лазерное воздействие приводит к модификации (растворению) включений MnAs, электрической активации Mn и, как следствие, к образованию однофазного ферромагнитного полупроводника GaMnAs. Ключевые слова: импульсное лазерное нанесение, импульсный лазерный отжиг, ферромагнитный полупроводник.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.