Вышедшие номера
Структура и свойства композитов на основе нитридов алюминия и галлия, выращенных на кремнии разной ориентации с буферным слоем карбида кремния
Российский научный фонд, 20-12-00193.
Шарофидинов Ш.Ш. 1, Кукушкин С.А. 2, Старицын М.В. 3, Солнышкин А.В. 4, Сергеева О.Н. 4, Каптелов Е.Ю. 1, Пронин И.П. 1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Институт проблем машиноведения РАН, Санкт-Петербург, Россия
3Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт"--Центральный научно-исследовательский институт конструкционных материалов "Прометей", Санкт-Петербург, Россия
4Тверской государственный университет, Тверь, Россия
Email: culkand@gmail.com, sergey.a.kukushkin@gmail.com, ms_145@mail.ru, a.solnyshkin@mail.ru, o_n_sergeeva@mail.ru, Kaptelov@mail.ioffe.ru, Petrovich@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 30 декабря 2021 г.
В окончательной редакции: 30 декабря 2021 г.
Принята к печати: 3 января 2022 г.
Выставление онлайн: 21 февраля 2022 г.

Исследованы микроструктура и пироэлектрические свойства композитных эпитаксиальных слоев AlxGa1-xN, выращенных на гибридных подложках SiC/Si(111) и SiC/Si(110) методом хлорид-гидридной эпитаксии. Обнаружено явление самопроизвольного, в процессе роста слоев, образования системы гетеропереходов, состоящих из периодических расположенных перпендикулярно направлению роста слоев AlxGa1-xN различного состава. Измерения пирокоэффициентов этих гетероструктур показали, что вне зависимости от ориентации исходной подожки Si их пирокоэффициенты имеют близкие значения порядка γ~(0.7-1)·10-10 С/cm2K. Показано, что для повышения величины пиротклика необходимо на поверхность AlxGa1-xN/SiC/Si наносить слой AlN, толщиной превышающий 1 μm. Это приводит к рекордным, для кристаллов и пленок AlN, значениям пирокоэффициента γ~18·10-10 С/cm2K. Ключевые слова: подложки карбида кремния на кремнии, хлорид-гидридная эпитаксия, эпитаксиальные слои AlGaN, нитрид алюминия, нитрид галлия, пироэлектрические свойства.