Impurity Effects on Nucleation and Growth of SiC Clusters and Layers on Si(100) and Si(111)
Ministry of education and science of Russian Federation, 6.9789.2017/BCh
Немецкая служба академических обменов (DAAD), DAAD Eastern Partnership at TU Ilmenau, 574355664
Pezoldt J.
1, Lubov M.N.
2, Kharlamov V.S.
31Institut fur Mikro- und Nanotechnologien, TU Ilmenau. Ilmenau, Germany
2Санкт-Петербургский национальный исследовательский Академический университет имени Ж.И. Алфёрова Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
3Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: joerg.pezoldt@tu-ilmenau.de, lubov@spbau.ru, kharlamo@theory.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 16 июля 2019 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 2019 г.
A kinetic Monte Carlo model of silicon carbide growth on silicon surface is proposed. Based on this model, the growth of silicon carbide clusters on silicon in the presence of a pre-deposited impurity of various types: attractive and repulsive, is studied. The density of silicon carbide clusters on silicon is calculated. Calculations of the dependencies of the silicon carbide clusters density on the impurity mobility are carried out. The process of redistribution of the species in the multi-component C|Ge|Si structure during annealing is studied in the framework of the kinetic approach. Concentration profiles of the structure components are determined. Keywords: silicon surface, silicon carbide, interface, impurity, kinetic Monte Carlo, rate equation.
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.