Вышедшие номера
Изучение микроструктуры кристаллов Si, подвергнутых облучению быстрыми Н+-ионами и термообработке, методами высокоразрешающей трехкристальной рентгеновской дифрактометрии и электронной просвечивающей микроскопии
Переводная версия: 10.1134/S1063783419100068
Асадчиков В.Е.1, Дьячкова И.Г.1, Золотов Д.А.1, Чуховский Ф.Н.1, Сорокин Л.М.2
1Институт кристаллографии им. А.В. Шубникова ФНИЦ "Кристаллография и фотоника" РАН, Москва, Россия
2Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: sig74@mail.ru
Поступила в редакцию: 29 мая 2019 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 2019 г.

Были изучены структурные особенности образования радиационных дефектов в имплантированных протонами слоях кремниевых пластин в процессе их термической обработки. Из анализа результатов исследований методами высокоразрешающей трехкристальной рентгеновской дифрактометрии и просвечивающей электронной микроскопии, получены новые данные о природе, характеристиках и концентрации микродефектов в кристаллах Si, облученных протонами с энергиями 100+200+300 keV, с общей дозой 2·1016 cm-2, и эволюции дефектной структуры при термообработке в широком диапазоне температур от 200 до 1100oС. Ключевые слова: кремний, ионы водорода, трехкристальная рентгеновская дифрактометрия, просвечивающая электронная микроскопия, постимплантационный отжиг, радиационные дефекты.