Вышедшие номера
Электронно-дифракционное изучение структуры эпитаксиального графена, выращенного методом термодеструкции 6H- и 4H-SiC (0001) в вакууме
Переводная версия: 10.1134/S1063783418070156
Котоусова И.С.1, Лебедев С.П.1, Лебедев А.А.1,2, Булат П.В.2
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Университет ИТМО, Санкт-Петербург, Россия
Email: sura.lebe@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 22 января 2018 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2018 г.

Методом дифракции быстрых электронов на отражение (ДБЭО) проведено исследование структуры графеновых слоев, образованных на поверхности Si-грани проводящих и полуизолирующих подложек карбида кремния 6H- и 4H-SiC(0001) путем термодесорбции атомов Si в высоком вакууме, в зависимости от температуры и времени сублимации атомов Si и способа предобработки поверхности подложек. Регистрация дифракционных картин осуществлялась в кристаллографических направлениях подложек [1210] и [1100]. Установлено, что во всех проведенных экспериментах образование графеновых слоев происходит с разворотом кристаллической решетки графена на 30o относительно решетки SiC. Статья подготовлена при финансовой поддержке Министерства образования и науки Российской Федерации (Соглашение N 14.575.21.0148, уникальный номер проекта RFMEF157517X0148).