Вышедшие номера
Формирование и легирование литием графена на поверхности силицида кобальта
Усачёв Д.Ю.1, Фёдоров А.В.1, Вилков О.Ю.1, Ерофеевская А.В.1, Вопилов А.С.1, Адамчук В.К.1, Вялых Д.В.1,2
1Санкт-Петербургский государственный университет, Санкт-Петербург, Россия
2Institute of Solid State Physics, Dresden University of Technology, Dresden, Germany
Email: usatchevd@bk.ru
Поступила в редакцию: 13 ноября 2014 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 2015 г.

Методами фотоэлектронной спектроскопии изучен процесс интеркаляции кремния под графен на поверхности Co(0001), сопровождающийся образованием твердого раствора кремния в кобальте и формированием поверхностной кристаллической фазы Co2Si. Показано, что образование силицида приводит к существенному ослаблению гибридизации электронных состояний графена и кобальта и восстановлению дираковского спектра электронных состояний графена вблизи уровня Ферми. Последнее позволило изучить процесс электронного допирования графена на подложке силицида кобальта при осаждении лития на его поверхность. Обнаружено, что легирование литием приводит к значительному переносу заряда на графен. При этом концентрация электронов достигает 3.1·1014 cm-2. Более того, особая форма поверхности Ферми создает благоприятные условия для усиления электрон-фононного взаимодействия, благодаря чему сформированная система может рассматриваться в качестве кандидата для получения сверхпроводимости в однослойном графене. Работа выполнена при поддержке грантами СПбГУ 11.37.634.2013 и 11.50.202.2015, РФФИ 14-02-31150 (мол_а) и BMBF (грант N 05K12OD3).