Вышедшие номера
Реактивная эпитаксия дисилицида кобальта на Si (100)
Гомоюнова М.В.1, Пронин И.И.1, Валдайцев Д.А.1, Фараджев Н.С.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 13 сентября 2001 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2002 г.

Изучен процесс роста дисилицида кобальта на грани Si (100) в условиях реактивной эпитаксии при T=350oC в диапазоне толщин напыленного кобальта 10-40 ML. Исследование проведено с помощью нового метода визуализации атомного строения приповерхностного слоя неупруго отраженными электронами средней энергии. Показано, что сформированные пленки состоят из зерен CoSi2 (221) четырех азимутальных ориентаций, развернутых на 90oC друг относительно друга. Такая доменная структура обусловлена фасетированием поверхности подложки плоскостями (111), происходящим в процессе силицидообразования. На фасетках (111) эпитаксиально растут слои CoSi2(111) с B-ориентацией. Работа выполнена при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (проект N 01-02-17288) и МПНТ (направление "Поверхностные атомные структуры", проект N 5.10.99).