Вышедшие номера
О поверхностных донорных состояниях, наведенных металлическими атомами, адсорбированными на широкозонных полупроводниках
Давыдов С.Ю.1, Тихонов С.К.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 1 декабря 1994 г.
Выставление онлайн: 20 августа 1995 г.

Для объяснения формирования барьера Шоттки на контакте металл-широкозонный полупроводник использована модель наведенных адатомами поверхностных состояний. Для этих целей в приближении сильной связи в рамках модели поверхностной молекулы рассчитано положение локальных уровней, наведенных металлическими атомами I и III групп, адсорбированными на поверхности алмаза, карбида кремния и нитридов бора, алюминия и галлия. Результаты расчета для адсорбционной связи металл-Si удовлетворительно согласуются с экспериментальными данными по высоте барьера Шоттки на контакте металл-6H-SiC. Теоретически предсказана зависимость высоты барьера от ионности полупроводника.