Рассмотрено влияние обработки водородной и кислородной плазмой тлеющего разряда на структурные и оптические свойства пленок SnO_x толщиной 270-350 nm, полученных магнетронным распылением и золь-гель-методом на стеклянной подложке. Показано сегрегирующее и разрушающее воздействие плазмы на структуру кристаллитов и прозрачность пленок, а также на их пористость. Выявлена принципиальная возможность получения посредством обработки в водородной плазме тлеющего разряда кристаллоаморфных наноструктур, в которых качественные нанокристаллы оксидов олова чередуются с кластерами оксидов олова. Работа поддержана Комитетом науки Министерства образования и науки Республики Казахстан: "Исследование физических процессов формирования нанообъектов и наноструктур на поверхности и границах раздела различных материалов для создания приборных структур широкого диапазона применений" (ГР 0109РК00887, шифр Ф0500, 2009-2011 гг.).

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.