Вышедшие номера
Использование микроскопии сопротивления растекания для определения параметров барьерного слоя в nBn-структурах на основе InSb
Российский научный фонд, 19-79-30086
Савин К.А. 1, Клековкин А.В. 1, Минаев И.И. 1, Ерошенко Г.Н. 1, Кривобок В.С. 1,2, Свиридов Д.Е. 1, Гончаров А.Е. 2, Николаев С.Н. 1
1Физический институт им. П.Н. Лебедева Российской академии наук, Москва, Россия
2АО "НПО "Орион", Москва, Россия
Email: savinkonstantin93@gmail.com, klekovkinav@lebedev.ru, i.minaev@lebedev.ru, er-grig@mail.ru, krivobokvs@lebedev.ru, sviridovde@lebedev.ru, ag93.orion@gmail.com, nikolaev-s@yandex.ru
Поступила в редакцию: 8 мая 2024 г.
В окончательной редакции: 8 мая 2024 г.
Принята к печати: 7 июня 2024 г.
Выставление онлайн: 23 августа 2024 г.

Продемонстрирован новый подход, позволяющий визуализировать электронную подсистему барьерно-диодных структур InSb/InAlSb, оценивать однородность слоя InAlSb, блокирующего основные носители в таких структурах, и определять высоту соответствующего потенциального барьера. Подход основан на измерении кремниевым зондом с алмазным покрытием сопротивления растекания на свежеприготовленном сколе (110) эпитаксиальной гетероструктуры. Ключевые слова: микроскопия сопротивления растекания, молекулярно-пучковая эпитаксия, ИК-фотодетектор, InSb, барьерно-диодные гетероструктуры.
  1. H. Heidarzaden, Phys. Status Solidi B, 260 (3), 2200358 (2022). DOI: 10.1002/pssb.202200358
  2. М.А. Суханов, А.К. Бакаров, Д.Ю. Протасов, К.С. Журавлев, Письма в ЖТФ, 46 (4), 3 (2020). DOI: 10.21883/PJTF.2020.04.49040.18055 [M.A. Sukhanov, A.K. Bakarov, D.Yu. Protasov, K.S. Zhuravlev, Tech. Phys. Lett., 46, 154 (2020). DOI: 10.1134/S1063785020020285]
  3. F.M. Klaassen, J. Blok, F.J. De Hoog, Physica, 27 (2), 185 (1961). DOI: 10.1016/0031-8914(61)90041-6
  4. S. Maimon, G.W. Wicks, Appl. Phys. Lett., 89 (15), 151109 (2006). DOI: 10.1063/1.2360235
  5. A. Evirgen, J. Abautret, J.P. Perez, A. Cordat, A. Nedelcu, P. Christol, Electron. Lett., 50 (20), 1472 (2014). DOI: 10.1049/el.2014.2799
  6. R. Xiao, H. Yan, Y. Pei, B. Li, K. Yang, J. Liu, X. Liu, J. Mater. Sci.: Mater. Electron., 30 (14), 13290 (2019). DOI: 10.1007/s10854-019-01692-4
  7. H. Liu, Y. Zhang, E.H. Steenbergen, S. Liu, Z. Lin, Y.-H. Zhang, J. Kim, M.-H. Ji, T. Detchprohm, R.D. Dupuis, J.K. Kim, S.D. Hawkins, J.F. Klem, Phys. Rev. Appl., 8 (3), 034028 (2017). DOI: 10.1103/PhysRevApplied.8.034028
  8. J. Singh, Semiconductor devices: basic principles (John Wiley \& Sons, 2000)
  9. Y. Sun, S.E. Thompson, T. Nishida, J. Appl. Phys., 101 (10), 104503 (2007). DOI: 10.1063/1.2730561

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.