Вышедшие номера
Фотоотклик в мультислойном графене при прохождении поверхностной акустической волны
Переводная версия: 10.1134/S1063785020030086
Российский фонд фундаментальных исследований (РФФИ), 16-29-06306
Кононенко О.В. 1, Емелин Е.В.1, Матвеев В.Н.1, Рощупкин Д.В.1
1Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН, Черноголовка, Московская обл., Россия
Email: oleg@iptm.ru, eemelin@iptm.ru, matveev@iptm.ru, rochtch@iptm.ru
Поступила в редакцию: 28 октября 2019 г.
В окончательной редакции: 28 октября 2019 г.
Принята к печати: 28 ноября 2019 г.
Выставление онлайн: 18 февраля 2020 г.

Исследован фотоотклик в мультислойном графене на кристалле ниобата лития (LiNbO3) в условиях приложенного к графену электрического потенциала и пропускания поверхностной акустической волны. Показано, что акустоэлектрический ток в графене при облучении светом либо возрастает, либо уменьшается в зависимости от полярности приложенного к графену потенциала. Поверхностная акустическая волна вызывает появление в графене периодической решетки зарядов, усиливающей взаимодействие с падающим светом, что приводит к увеличению фотоотклика. Ключевые слова: графен, поверхностная акустическая волна, акустоэлектрический ток, фотоотклик.