Вышедшие номера
Лазерное внедрение примесей в кристаллы теллурида кадмия
Зеленина Н.К.1, Матвеев О.А.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 26 декабря 1997 г.
Выставление онлайн: 20 мая 1998 г.

Исследовались процессы лазерного внедрения мелких доноров (алюминия и индия) и акцептора (сурьмы) в кристаллы CdTe (n,p~ 1015 cm-3). Напыленные в вакууме на травленую поверхность кристаллов тонкие пленки легирующей примеси облучались рубиновым (lambda=0.694 mum) и Nd : YAG (lambda=1.06 mum) импульсным (длительностью импульса 20 ns) лазером в широком интервале энергий (0.1-1.8 J/cm2). Исследование облученных поверхностей производилось методами рентгеновского микроанализа, Оже-спектроскопии, термоэдс. Показано, что облучение Nd : YAG лазером приводит к однородному легированию алюминием приповерхностного слоя кристалла. При внедрении индия образуются преципитаты. Концентрация внедренных примесей достигает 1019-1021 cm-3.