Вышедшие номера
Особенности структурирования поверхности кристаллов кремния (100) при СВЧ плазменной обработке в различных газовых средах
Шаныгин В.Я.1, Яфаров Р.К.1
1Саратовский филиал Института радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН, Саратов, Россия
Email: pirpc@yandex.ru
Поступила в редакцию: 29 мая 2012 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 2013 г.

Исследованы закономерности влияния режимов СВЧ плазменной обработки на наноморфологию поверхности монокристаллов кремния кристаллографической ориентации (100) с естественным оксидным покрытием. Рассмотрены модельные механизмы процессов наноструктурирования поверхности при плазменной обработке в газовых средах с различной селективностью к гетероструктурному материалу подложки.
  1. Леденцов Н.Н., Устинов В.М., Щукин В.А., Копьев П.С., Алферов Ж.И., Бимберг Д. // ФТП. 1998. Т. 32. В. 4. С. 385--410
  2. Шаныгин В.Я., Яфаров Р.К. // ФТП. 2011. Т. 45. В. 11. С. 1542--1548
  3. Герасименко Н.Н., Пархоменко Ю.Н. Кремний --- материал наноэлектроники. М.: Техносфера, 2007. 352 с
  4. Xu S., Levchenko I., Huang S.Y., Ostrikov K. // Appl. Phys. Lett. 2009. V. 95. P. 111 505
  5. Fatima Toor, Matthew R. Page, Howard M. Branz, Hao-Chih Yuan. Preprint. Presentedat the 37th IEEE Photovoltaic Specialists Conference (PVSC 37). Seattle, Washington, June 18--24, 2011
  6. Шаныгин В.Я., Яфаров Р.К. // ЖТФ. 2009. Т. 79. В. 12. С. 73--78
  7. Яфаров Р.К. Физика СВЧ вакуумно-плазменных нанотехнологий. М.: Физматлит, 2009. 216 с
  8. Ивановский Г.Ф., Петров В.И. Ионно-плазменная обработка материалов. М.: Радио и связь. 1986. 232 с
  9. Технология СБИС: В 2 кн. / Пер. с англ. Под ред.С.Зи. М.: Мир, 1985. 404 с

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.