"Письма в журнал технической физики"
Издателям
Вышедшие номера
Влияние энергии ионов на морфологию поверхности пленки платины при высокочастотном ионно-плазменном распылении
Амиров И.И.1, Наумов В.В.1, Изюмов М.О.1, Селюков Р.С.1
1Ярославский филиал Физико-технологического института РАН, Ярославль
Email: amirov@yandex.ru
Поступила в редакцию: 31 июля 2012 г.
Выставление онлайн: 21 декабря 2012 г.

Приведены результаты исследования влияния энергии ионов (Ei==45-220 eV) на скорость распыления и морфологию поверхности поликристаллической пленки платины при ее обработке в плотной аргоновой плазме ВЧ индукционного разряда низкого давления (P=0.08 Pa). Определены коэффициенты распыления Pt в зависимости от энергии ионов. Анализ данных сканирующей туннельной микроскопии показал сильное различие профилей поверхностей образцов, полученных при обработке их ионами с миниимальной и максимальной энергией. Обсуждается механизм изменения морфологии поверхности Pt при ионно-плазменном распылении.
  • Bruce P., Scrosati B., Tarasconi J.-M., van Scholkwijk W. // Nature Mater. 2005. V. 4. P. 366
  • Caillard A., Charles C., Boswell R., Brault P. // Nanotechnology. 2007. V. 18. P. 305 603
  • Wickman B., Fredriksson H., Gustafsson S., Olsson E., Kasemo B. // Nanotechnology. 2011. V. 22. P. 345 302
  • Bharathi M.S., Ramanarayan H., Zhang Y.W. // Appl. Phys. Lett. 2011. V. 99. P. 083 103
  • Majumder S., Paramanik D., Solanki V., Bag B.P., Varma S. // Appl. Phys. Lett. 2011. V. 98. P. 053 105
  • Zimin S.P., Amirov I.I., Gorlachev E.S., Zogg H. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2009. V. 42 (16). P. 165 205
  • Lin J.J., Roshan M.V., Pan Z.Y., Verma R., Lee P., Springham S.V., Tan T.L., Rawat R.S. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2008. V. 41. P. 135 213
  • Zimin S.P., Gorlachev E.S., Amirov I.I. // Semicond. Sci. Technol. 2011. V. 26 (5). P. 055 018
  • Cooke M.J., Hassall G. // Plasma Sources Sci. Technol. 2002. V. 11. P. A74
  • Horcas I., Fernandez R., Gomes-Rodriguez J.M., Colchero J., Gomez-Herrero J., Baro A.M. // Rev. Sci. Instrum. 2007. V. 78. P. 013 705
  • Ikuse K., Yoshimura S., Hine K., Kiuchi M., Hamaguchi S. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2009. V. 42. P. 135 203
  • Sigmund P. // Phys. Rev. 1969. V. 184. P. 384
  • Kawamura E., Vahedi V., Lieberman M.A., Birdsall C.K. // Plasma Sources Sci. Technol. 1999. V. 8. P. R45
  • Беграмбеков Л.Б. // Итоги науки и техники. Сер. Пучки заряженных частиц. ВИНИТИ. 1993. Т. 7. С. 4--57
  • Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

    Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.