Вышедшие номера
Адмиттансные характеристики сенсоров на основе арсенида галлия, компенсированного хромом
Министерство образования и науки Российской Федераци, Государственное задание, FSWM-2025-0021
Трофимов М.С. 1, Яковлев Н.Н. 1
1Национальный исследовательский Томский государственный университет, Томск, Россия
Email: mikhail.trofimov@mail.tsu.ru
Поступила в редакцию: 1 декабря 2025 г.
В окончательной редакции: 20 января 2026 г.
Принята к печати: 21 января 2026 г.
Выставление онлайн: 20 февраля 2026 г.

Выполнено экспериментальное исследование адмиттансных характеристик сенсоров на основе арсенида галлия, компенсированного хромом (HR-GaAs:Cr), с барьерными контактами на основе Ni и Cr в диапазоне температур 30-280 oC. Проанализированы вольт-фарадные и вольт-сименсные характеристики сенсоров на частоте 1 MHz. Установлено, что в диапазоне температур 30-150 oС HR-GaAs:Cr сенсоры работают в режиме плоского конденсатора, при котором не наблюдается зависимости емкости от напряжения, а в диапазоне 150-280 oС осуществляется переход к работе в режиме барьера Шоттки. Показано, что в диапазоне 230-280 oС появление изломов на вольт-фарадной характеристике связано с возникновением туннельного электрического пробоя сенсоров. Установлено, что с ростом напряжения наблюдается спад и выход на участок насыщения проводимости сенсоров в результате обеднения их активной области электронами. Из температурной зависимости активной проводимости сенсоров рассчитана энергия активации хрома в GaAs, которая составила Ea=0.81 eV, что с хорошей точностью согласуется с литературными данными. Ключевые слова: полупроводниковые cенсоры, HR-GaAs:Cr, вольт-фарадная характеристика, вольт-сименсная характеристика.
  1. С.С. Хлудков, О.П. Толбанов, М.Д. Вилисова, И.А. Прудаев. Полупроводниковые приборы на основе арсенида галлия с глубокими примесными центрами. Издательский Дом Томского государственного университета, Томск (2016). 258 с
  2. A.V. Tyazhev, D.L. Budnitsky, O.B. Koretskaya, V.A. Novikov, L.S. Okaevich, A.I. Potapov, O.P. Tolbanov, A.P. Vorobiev. Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. A 509, 3, 34 (2003)
  3. G.I. Ayzenshtat, D.L. Budnitsky, O.B. Koretskaya, V.A. Novikov. Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. A 531, 1, 121 (2004)
  4. A.V. Tyazhev, O.P. Tolbanov, V.A. Novikov, A.N. Zarubin, M. Fiederle, E. Hamann. Proc. SPIE. --- The int. Soc. for. Opt. Eng. (San Diego, California, United States, 2014) 9213, p. 12
  5. I.D. Chsherbakov, I. Kolesnikova, A.D. Lozinskaya, T. Mihaylov, V.A. Novikov, A. Shemeryankina, O.P. Tolbanov, A.V. Tyazhev, A.N. Zarubin. JINST 13, 1, 01030 (2018)
  6. M.C. Veale, S.J. Bell, D.D. Duarte, M.J. French, A. Schnieder, P. Seller, M.D. Wilson, A.D. Losinskaya, V.A. Novikov, O.P. Tolbanov, A.V. Tyazhev, A.N. Zarubin. Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. A 752, 6 (2014)
  7. E. Hamann, A. Cecilia, A. Zwerger, A. Fauler, O.P. Tolbanov, A.V. Tyazhev, G. Shelkov, H. Graafsma, T. Baumbach, M. Fiederle. J. Phys. Conf. Ser. 425, 6, 062015 (2013)
  8. M.C. Veale, S.J. Bell, D.D. Duarte, M.J. French, M. Hart, A. Schneider, M.D. Wilson, V. Kachankov, V.A. Novikov, O.P. Tolbanov, A.V. Tyazhev, A.N. Zarubin. JINST 9, C12047 (2014)
  9. J. Becker, M.W. Tate, K. Shanks, H.T. Philipp, J.T. Weiss, P. Purohit, D. Chamberlain, S.M. Gruner. JINST 13, P01007 (2018)
  10. P. Smolyanskiy, G. Chelkov, S. Kotov, U. Kruchonak, D. Kozhevnikov, A. Zhemchugov, B. Bergmann, Y. Sierra, I. Stekl. JINST 13, T02005 (2018)
  11. S. Chiriotti, R. Barten, A. Bergamaschi, M. Carulla, I.D. Chsherbakov, D. Roberto, E. Frojdh, D. Greiffenberg, O.P. Tolbanov, A.V. Tyazhev, A.N. Zarubin, J. Zhang, M. Bruckner. JINST 17, 4, P04007 (2022)
  12. M.C. Veale, P. Booker, B. Cline, J. Coughlan, M. Hart, T. Nicholls, A. Schneider, P. Seller, I. Pape, K. Sawhney, A.D. Lozinskaya, V.A. Novikov, O.P. Tolbanov, A.V. Tyazhev, A.N. Zarubin. JINST 12, P02015 (2017)
  13. C. Ponchut, M. Cotte, A.D. Lozinskaya, A. Zarubin, O.P. Tolbanov, A.V. Tyazhev. JINST 12, 12, C12023 (2017)
  14. S.M. Sze, K.Ng. Kwok. Physics of Semiconductor Devices. Wiley, N.Y. (2006). 763 p
  15. D.K. Schroder. Semiconductor Material and Device Characterization. Wiley, N.Y., (1998). 755 p
  16. А. Милнс. Примеси с глубокими уровнями в полупроводниках. Мир, M. (1977). 563 с
  17. M.J. Papastamatiou, G. Papaioannou. J. Appl. Phys. 68, 1094 (1990)
  18. E.H. Rhoderick, R.H. Williams. Melal-Semiconductor Contacts. Oxford, Clarendon. (1988). 252 p
  19. P.S. Ho, E.S. Yang, H.L. Evans, X. Wu. Phys. Rev. Lett. 56, 177 (1986)
  20. F. Chekir, C. Barret, A. Vapaille. J. Appl. Phys. 54, 6474 (1983)
  21. J. Werner. Phys. Rev. Lett. 60, 1 (1988)
  22. P. Chattopadhyay, B. Raychaudhuri. Solid-State Electron. 35, 6, 875 (1992)
  23. A. Singh, L. Velasquez. Proc. 1st Int. Conf. Dev, Circ. Sys. (Caracas, Venezuela, 1995). P. 70
  24. А.Г. Дмитриев.  ФТП 29, 3, 442 (1995)
  25. Г.И. Айзенштат, М.А. Лелеков, В.А. Новиков, Л.С. Окаевич, О.П. Толбанов. ФТП   41, 5, 631 (2007)