Вышедшие номера
Влияние внешнего поля и температуры на временную эволюцию тока утечки в пленочной структуре BiFeO3/TiO2(Nt)Ti
Гаджиев Г.М.1, Рамазанов Ш.М.1, Абакарова Н.С.1, Эфендиева Т.Н.1
1Институт физики им. Х.И. Амирханова ДФИЦ РАН, Махачкала, Россия
Email: ramazanv@mail.ru
Поступила в редакцию: 13 октября 2023 г.
В окончательной редакции: 15 января 2024 г.
Принята к печати: 18 января 2024 г.
Выставление онлайн: 14 февраля 2024 г.

Изучено поведение токов утечки пленочной структуры BiFeO3/TiO2(Nt)Ti (BFOT), полученной методом атомного слоевого осаждения феррита висмута на подложку из предварительно полученных нанотрубок диоксида титана, в зависимости от времени воздействия и величины электрического напряжения в области температур 28-250oC. В структуре BFOT возникают электрически неоднородные состояния с объемным зарядом, что приводит к гистерезису ВАХ. Гистерезис и неоднородность зависят от времени релаксации. На временной зависимости токов утечки обнаружены особенности в виде тенденции к образованию максимума в интервале температур ~28-200oC. При температуре T=250oC максимум на временной зависимости стабилизируется и монотонно растет с увеличением приложенного напряжения. Для данной структуры определено характерное время t=0.5 s для зависимостей I(t) обусловленное захватом и высвобождением носителей с дефектных уровней. Ключевые слова: BiFeO3, ток утечки, нанотрубки, тонкие пленки.