Вышедшие номера
Особенности формирования пентагональных микрокристаллов никеля в сплошных электроосажденных покрытиях при избирательном ингибировании роста их отдельных граней
Матвеева Н.С.1, Грызунова Н.Н. 1, Ясников И.С. 1
1Тольяттинский государственный университет, Тольятти, Россия
Email: nad.matveeva96@mail.ru, gryzunova-natalja@yandex.ru, yasnikov@phystech.edu
Поступила в редакцию: 15 июля 2021 г.
В окончательной редакции: 15 июля 2021 г.
Принята к печати: 17 июля 2021 г.
Выставление онлайн: 14 сентября 2021 г.

Представлены экспериментальные факты, свидетельствующие о возможности управления габитусом микрокристаллов, которые являются структурными единицами электроосажденных никелевых покрытий. Введение добавок (ингибиторов) в электролит определенного химического состава оказывает влияние на конкуренцию в эволюции отдельных кристаллографических граней растущих микрокристаллов, и инициирует рост граней микрокристаллов с определенной кристаллографической ориентацией. Это приводит к получению никелевого покрытия преимущественно состоящего из микрокристаллов, содержащих дефекты дисклинационного типа и обладающих пентагональной симметрией. Ключевые слова: никель, покрытие, электроосаждение, дисклинация, релаксация.
  1. V.G. Gryaznov, J. Heidenreich, A.M. Kaprelov, S.A. Nepijko, A.E. Romanov, J. Urban. Cryst. Res. Technology 34, 9, 1091 (1999)
  2. L.D. Marks. Rep. Prog. Phys. 57, 6, 603 (1994)
  3. A.E. Romanov, A.L. Kolesnikova. Prog. Mater. Sci. 54, 6, 740 (2009)
  4. V.G. Gryaznov, A.M. Kaprelov, A.E. Romanov, I.A. Polonskii. Phys. Status Solidi B 167, 2, 441 (1991)
  5. И.С. Ясников. ЖТФ 77, 5, 133 (2007). [I.S. Yasnikov. Tech. Phys. 52, 5, 666 (2007).]
  6. A.E. Romanov, A.L. Kolesnikova, I.S. Yasnikov, A.A. Vikarchuk, M.V. Dorogov, A.N. Priezzheva, L.M. Dorogin, E.C. Aifantis. Rev. Adv. Mater. Sci. 48, 2, 170 (2017)
  7. J. Bebczuk de Cusminsky. Scripta Metallurg. 10, 12, 1071 (1976)
  8. А.А. Викарчук, А.П. Воленко. ФТТ 47, 2, 339 (2005). [A.A. Vikarchuk, A.P. Volenko. Phys. Solid State 47, 2, 352 (2005).]
  9. И.С. Ясников, Ю.Д. Гамбург, П.Э. Прохоров. Электрохимия 46, 5, 556 (2010). [I.S. Yasnikov, Yu.D. Gamburg, P.E. Prokhorov. Russ. J. Electrochem. 46, 5, 524 (2010).]
  10. И.С. Ясников. ФТТ 53, 9, 1815 (2011). [I.S. Yasnikov. Phys. Solid State 53, 9, 1917 (2011).]
  11. И.С. Ясников, Д.А. Денисова. Письма в ЖЭТФ 95, 5, 270 (2012). [I.S. Yasnikov, D.A. Denisova. JETP Lett. 95, 5, 246 (2012).]
  12. И.С. Ясников, Д.А. Денисова. ФТТ 55, 3, 585 (2013). [I.S. Yasnikov, D.A. Denisova. Phys. Solid State 55, 3, 642 (2013).]
  13. C.R. Hall, S.A.H. Fawzi. Phil. Mag. A 54, 6, 805 (1986)
  14. Tao Hang, Ming Li, Qin Fei, Dali Mao. Nanotechnology 19, 3, 035201 (2008)
  15. Liuyang Bai, Junmei Fan, Yuebin Cao, Fangli Yuan, Ahui Zuo, Qing Tang. J. Cryst. Growth 311, 2474 (2009)
  16. Tao Hang, Huiqin Ling, Anmin Hu, Ming Li. J. Electrochem. Soc. 157, 12, D624 (2010)
  17. K.P. Donegan, J.F. Godsell, J.M. Tobin, J.P. O'Byrne, D.J. Otway, M.A. Morris, S. Roy, J.D. Holmes. Cryst. Eng. Commun. 13, 2023 (2011).
  18. Ю.И. Головин, Д.Ю. Головин, А.В. Шуклинов, Р.А. Столяров, В.М. Васюков. Письма в ЖТФ 37, 6, 21 (2011). [Yu.I. Golovin, D.Yu. Golovin, A.V. Shuklinov, R.A. Stolyarov, V.M. Vasyukov. Techn. Phys. Lett. 37, 3, 253 (2011).]
  19. Ю.И. Головин, Р.А. Столяров, А.В. Шуклинов. ЖТФ 83, 8, 105 (2013). [Yu.I. Golovin, R.A. Stolyarov, A.V. Shuklinov. Tech. Phys. 58, 8, 1189 (2013).]
  20. Jae Min Lee, Kyung Kuk Jung, Sung Ho Lee, Jong Soo Ko. Appl. Surface Sci. 369, 163 (2016)
  21. Jae Min Lee, Kyung Kuk Jung, Jong Soo Ko. J. Mater. Sci. 51, 3036 (2016).

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.