Вышедшие номера
Сравнительное исследование латерального фотовольтаического эффекта в структурах Fe3O4/SiO2/n-Si и Fe3O4/SiO2/p-Si
Переводная версия: 10.1134/S1063783418070223
Российская академия наук, Комплексная программа фундаментальных исследований ДВО РАН «Дальний Восток», 18-3-022
Писаренко T.A. 1,2, Балашев В.В. 1,2, Викулов В.A. 1, Димитриев A.A. 1,2, Коробцов В.В. 1,2
1Институт автоматики и процессов управления ДО РАН, Владивосток, Россия
2Дальневосточный федеральный университет, Владивосток, Россия
Email: tata_dvo@iacp.dvo.ru, balashev@mail.dvo.ru, vikulov@iacp.dvo.ru, corrupter@mail.ru, korobtsov@iacp.dvo.ru
Поступила в редакцию: 9 февраля 2018 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2018 г.

Представлены результаты сравнительного исследования латерального фотовольтаического эффекта в структурах Fe3O4/SiO2/n-Si и Fe3O4/SiO2/p-Si. В обеих структурах латеральное фотонапряжение максимально вблизи измерительных контактов, но имеет противоположный знак. При смещении светового пятна от измерительных контактов оно линейно меняется в структуре Fe3O4/SiO2/n-Si и экспоненциально затухает в структуре Fe3O4/SiO2/p-Si. Установлено, что инверсия полярности фотонапряжения при смене типа проводимости кремния обусловлена наличием интерфейсных состояний на границе раздела SiO2/Si. Обнаружено, что для обеих структур наблюдается экстремальная толщинная зависимость фотонапряжения с оптимальной толщиной пленки Fe3O4 ~ 50 nm. Работа частично поддержана Комплексной программой фундаментальных исследований ДВО РАН "Дальний Восток" 2018-2020 гг. N 18-3-022 (0226-18-0031).