Вышедшие номера
Доменный эпитаксиальный рост сегнетоэлектрических пленок титаната бария-стронция на сапфире
Переводная версия: 10.1134/S1063783418010274
Тумаркин А.В.1, Одинец А.А.1
1Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
Email: avtumarkin@yandex.ru
Поступила в редакцию: 14 июня 2017 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2017 г.

Представлена модель эпитаксиального роста кристаллических многокомпонентных пленок на монокристаллических подложках с доменным соответствием на примере твердого раствора титаната бария-стронция на подложках сапфира (r-срез). Доменный эпитаксиальный рост предполагает согласование плоскостей решетки пленки и подложки, имеющих схожую структуру, путем сопоставления доменов, кратных целому числу межплоскостных расстояний. Варьирование компонентного состава твердого раствора позволяет изменять размер домена в диапазоне, достаточном для снижения рассогласования решеток титаната бария-стронция и сапфира до значения, достаточного для эпитаксиального роста. Таким образом может быть спроектирован эпитаксиальный рост пленок различных твердых растворов на монокристаллических подложках. Работа выполнена при частичной финансовой поддержке РФФИ в рамках проектов N 16-29-05147 офи_м, 16-07-00617 А, 16-08-00808 А и Минобрнауки России (государственное задание N 3.3990.2017/4.6). Моделирование выполнено при поддержке гранта УМНИК" - N10404ГУ/2015. DOI: 10.21883/FTT.2018.01.45293.200