Методами рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, спектроскопии характеристических потерь энергии электрона высокого разрешения и дифракции медленных электронов изучена эволюция химического состава, атомной структуры и электронных свойств поверхности p-GaN(0001) при ее химической обработке раствором HCl в изопропиловом спирте (HCl-ИПС) и прогреве в вакууме. Показано, что химическая обработка поверхности GaN удаляет значительную часть поверхностного оксида галлия, а последующий прогрев поверхности в вакууме в интервале температур 400-450^oC уменьшает остаточные загрязнения углеродом и кислородом до 3-5% от монослоя. Дифракция медленных электронов подтвердила получение чистой поверхности p-GaN(0001) со структурой объемной элементарной ячейки (1x1). Адсорбция цезия на чистую поверхность p-GaN приводила к снижению работы выхода на ~2.5 eV и появлению на поверхности эффективного отрицательного электронного сродства. Квантовая эффективность GaN-фотокатода составила 26% на длине волны 250 nm. Работа выполнена при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (грант N 04-02-16639), Фонда содействия отечественной науке и Совета по грантам Президента Российской Федерации.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.