Изучено влияние подслоя висмута с эффективной толщиной от 0.5 до 4 nm на структуру пленок фуллерена C₆₀, выращенных методом квазизамкнутого объема на аморфных подложках (кремний, покрытый слоем естественного окисла, стекло). Методом рентгеноструктурного анализа фуллереновых пленок выявлена немонотонная зависимость соотношения интенсивностей пиков (220) и (111) от толщины подслоя. В интервале толщин подслоя висмута 0.5-2 nm в пленках фуллeрена обнаружена текстура зарождения с осью < 110>, а средний размер кристаллов составил ~20 mum. Совершенство текстуры может быть повышено путем изменения температурного режима роста фуллерена. Работа выполнена в рамках бюджетной Научно-исследовательской программы Украины по теме М5462 "Фуллереновые композиции, формирующиеся из потоков частиц компонентов повышенной энергии".

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.