Влияние нанослоев висмута на ориентированный рост фуллерена C60 на аморфных подложках
Пуха В.Е.1, Варганов В.В.1, Михайлов И.Ф.1, Дроздов А.Н.1
1Национальный технический университет "Харьковский политехнический институт", Харьков, Украина
Email: puch@kpi.kharkov.ua
Поступила в редакцию: 5 ноября 2003 г.
Выставление онлайн: 20 июля 2004 г.
Изучено влияние подслоя висмута с эффективной толщиной от 0.5 до 4 nm на структуру пленок фуллерена C60, выращенных методом квазизамкнутого объема на аморфных подложках (кремний, покрытый слоем естественного окисла, стекло). Методом рентгеноструктурного анализа фуллереновых пленок выявлена немонотонная зависимость соотношения интенсивностей пиков (220) и (111) от толщины подслоя. В интервале толщин подслоя висмута 0.5-2 nm в пленках фуллeрена обнаружена текстура зарождения с осью < 110>, а средний размер кристаллов составил ~20 mum. Совершенство текстуры может быть повышено путем изменения температурного режима роста фуллерена. Работа выполнена в рамках бюджетной Научно-исследовательской программы Украины по теме М5462 "Фуллереновые композиции, формирующиеся из потоков частиц компонентов повышенной энергии".
- Т.Л. Макарова, И.Б. Захарова, Т.И. Зубкова, А.Я. Вуль. ФТТ 41, 2, 354 (1999)
- V.A. Dudkin, A.S. Vus, V.E. Pukha, E. Zubarev, O. Vovk. Mol. Crist. Liq. Crist. 361, 245 (2001)
- I.F. Mikhailov, V.E. Pukha, O.V. Sobol, V.V. Varganov. Functional Mater. 10, 2, 266 (2003)
- J.G. Hou, Wentao Xu, Wang Haiqian, Yang Li. J. Appl. Phys. 84, 5 (1998)
- M. Naitoh, H. Shimaya, S. Nishigaki, N. Oishi, F. Shoji. Surf. Sci. 377--379, 899 (1997)
- Л.Майселл, Р. Глэнг. Технология тонких пленок. Справочник / Пер. с англ. под ред. М.И. Елинсона, Г.Г. Смолко. Сов. радио, М. (1977). Т. 1. 664 с
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
