Вышедшие номера
Оптический мониторинг процесса осаждения сегнетоэлектрических пленок
Афанасьев М.С.1, Набиев А.Э.2, Чучева Г.В.1
1Фрязинский филиал Института радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН, Фрязино, Россия
2Азербайджанский государственный педагогический университет, Баку, Азербайджан
Email: gvc@ms.ire.rssi.ru
Поступила в редакцию: 19 августа 2014 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2015 г.

Рассматривается метод оптического мониторинга процесса осаждения сегнетоэлектрических пленок состава Ba0.8Sr0.2TiО3, выращенных методом высокочастотного реактивного плазмохимического осаждения. Исследования плазмы в оптическом диапазоне показали, что спектр излучения на длинах волн lambda>450 nm не претерпевает изменений в интервалах варьирования напряжения смещения. При lambda=300-400 nm наблюдается корреляция спектров излучения пленкообразующей среды при различных напряжениях мишень-подложка. Масс-спектры пленкообразующей среды показали, что при напряжениях смещения U=350-600 V в газовой фазе в основном регистрируются ионизированные частицы с массовым числом 220-240, близким к молярной массе соединения Ba0.8Sr0.2TiО3± x. При U>650 V наряду с образованием многоатомных частиц в газовой фазе присутствуют ионы с массовыми числами, соответствующими химическому составу компонент мишени BaTiО3, SrTiО3, BaО, SrО. Показано, что на границе раздела фаз существует переходный слой, обогащенный материалом подложки. Установлено, что мониторинг пленкообразующей среды и временной фактор позволяют воспроизводимо выращивать наноразмерные пленки с заданными кристаллохимическими параметрами. Работа выполнена при частичной поддержке РФФИ (гранты N 12-07-00662-а, 13-07-00782-а) и Программы фундаментальных исследований Президиума РАН "Основы фундаментальных исследований нанотехнологий и наноматериалов".