Формирование тонкопленочной структуры Eu-Si(111): стадия силицидообразования
Крачино Т.В.1, Кузьмин М.В.1, Логинов М.В.1, Митцев М.А.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 31 июля 2003 г.
Выставление онлайн: 18 февраля 2004 г.
Методами дифракции медленных электронов, электронной Оже-спектроскопии, контактной разности потенциалов и изотермической термодесорбционной спектроскопии исследованы процессы силицидообразования в тонких пленках, образующихся при напылении атомов Eu на поверхность Si(111). Показано, что при нанесении Eu на подложку при комнатной температуре растет неупорядоченная пленка практически чистого Eu. При высоких температурах (T>=q 500 K) формирование системы Eu-Si(111) происходит по механизму Странского-Крастанова: вначале образуется двумерный переходный слой (реконструкция) со структурой (2x 1), а затем растут трехмерные кристаллиты силицидов. Показано, что отличительной особенностью исследованной системы является низкая скорость диффузии атомов Si в силицидах европия. Этим обусловлен градиент концентрации атомов Si по толщине пленок силицидов и как следствие этого их многофазный состав. Работа выполнена при поддержке МПНТ РФ в рамках государственной научной программы "Поверхностные атомные структуры" (грант N 2.5.99).
- J.E. Baglin, F.M. d'Heurle, C.S. Peterson. Appl. Phys. Lett. 36, 7, 294 (1980)
- F.P. Netzer. J. Phys.: Condens. Matter. 7, 991 (1995)
- K.N. Tu, R.D. Thompson, B.Y. Tsaur. Appl. Phys. Lett. 38, 8, 626 (1981)
- W.A. Henle, M.G. Ramsey, F.P. Netzer, K. Norn. Surface Science 254, 182 (1991)
- А.Ю. Григорьев, А.М. Шикин, Г.В. Прудникова, С.А. Горовиков, В.К. Адамчук. ФТТ 40, 3, 562 (1997)
- L. Ming, L. Grill, M.G. Ramsey, F.P. Netzer, J.A.D. Matthew. Surface Science 375, 24 (1997)
- Т.В. Крачино, М.В. Кузьмин, М.В. Логинов, М.А. Митцев. ФТТ 42, 3, 553 (2000)
- T.V. Krachino, M.V. Kuz'min, M.V. Loginov, M.A. Mittsev. Appl. Surf. Sci. 182, 115 (2001)
- М.В. Кузьмин, М.В. Логинов, М.А. Митцев, Т.В. Крачино. ФТТ 37, 4, 1030 (1995)
- A. Ishizaka, Y. Shiraki. J. Electrochem. Soc. 133, 4, 666 (1986)
- Т.В. Крачино, М.В. Кузьмин, М.В. Логинов, М.А. Митцев. ФТТ 39, 2, 256 (1997)
- Дж.П. Хирс, К.Л. Моазед. В кн.: Физика тонких пленок / Под ред. Г. Хааса, Р.Э. Туна. Пер. с англ. Мир, М. (1970). Т. 4. С. 123
- Т.В. Крачино, М.В. Кузьмин, М.В. Логинов, М.А. Митцев. ФТТ 40, 2, 371 (1998)
- R. Kern, G. Le Lay, J.J. Metois. In Current Topics in Mater Sci. 3, 3, 179 (1979)
- Свойства элементов. Часть I Физические свойства / Под ред. Г.В. Самсонова. Металлургия, М. (1976). 299 с
- Л. Фелдман, Д. Майер. Основы анализа поверхности и тонких пленок. Пер. с англ. Мир, М. (1989). 342 с
- W. Monch. Semiconductor. Surfaces and Interfaces. Springer-Verlag, Berlin, (1993). 366 p
- Т.В. Крачино, М.В. Кузьмин, М.В. Логинов, М.А. Митцев. ФТТ 39, 9, 1672 (1998)
- Т.В. Крачино, М.В. Кузьмин, М.В. Логинов, М.А. Митцев. ФТТ 40, 10, 1937 (1998)
- I. Manke, H.J. Wen, A. Hohr, A. Bauer, M. Dahne-Prietsch, G. Kaindl. J. Vac. Sci. Techn. B 13, 4, 1657 (1995).
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.