Вышедшие номера
Влияние характера пробоя p-n-перехода на интенсивность и эффективность возбуждения электролюминесценции ионов Er3+ в эпитаксиальных слоях Si : Er, полученных методом сублимационной молекулярно-лучевой эпитаксии
Шмагин В.Б.1, Ремизов Д.Ю.1, Красильник З.Ф.1, Кузнецов В.П.1, Шабанов В.Н.1, Красильникова Л.В.1, Крыжков Д.И.1, Дроздов М.Н.1
1Институт физики микроструктур Российской академии наук, Нижний Новгород, Россия
Email: shm@ipm.sci-nnov.ru
Выставление онлайн: 20 декабря 2003 г.

На примере серии светоизлучающих диодных структур Si : Er / Si с плавно меняющимся механизмом пробоя p-n-перехода, полученных методом сублимационной молекулярно-лучевой эпитаксии, исследовано влияние механизма пробоя на электролюминесцентные свойства структур. Показано, что максимальные интенсивности и эффективность возбуждения электролюминесценции ионов Er3+ при комнатной температуре достигаются в диодных структурах, работающих в режиме смешанного пробоя. Работа выполнена при финансовой поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (грант N 02-02-16773), Минпромнауки РФ (Госконтракт N 40.020.1.1.1159).