Вышедшие номера
Изменение электронных и адсорбционных свойств GaAs(100) при переходе от As-обогащенной к Ga-обогащенной поверхности
Бенеманская Г.В.1, Дайнека Д.В.1, Франк-Каменецкая Г.Э.2
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский государственный технологический институт (Технический университет), Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 12 июля 2001 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 2002 г.

Методом пороговой фотоэмиссионной спектроскопии исследовано изменение электронных свойств при адсорбции Cs на GaAs(100) при последовательном переходе от поверхности, обогащенной As, к поверхности, обогащенной Ga. Изучены ионизационная энергия и интегральный фотоэмиссионный ток в зависимости от Cs-покрытия. Установлено, что минимум ионизационной энергии и соответствующая доза Cs существенно различаются для обогащенной As и обогащенной Ga поверхностей GaAs(100). Впервые обнаружены аномальные кривые с двумя минимумами ионизационной энергии, которые наблюдаются для поверхностей в промежуточном состоянии с димерами Ga и с димерами As. Установлено, что коэффициент прилипания Cs на поверхности, обогащенной As, в несколько раз меньше, чем на поверхности, обогащенной Ga. Работа выполнена при поддержке гранта Российского фонда фундаментальных исследований N 01-02-16802 и гранта в рамках программы N 1-107 Министерства промышленности, науки и технологий РФ.