Шмагин В.Б.1, Ремизов Д.Ю.1, Оболенский С.В.1, Крыжков Д.И.1, Дроздов М.Н.1, Красильник З.Ф.1
1Институт физики микроструктур Российской академии наук, Нижний Новгород, Россия
Email: shm@ipm.sci-nnov.ru
Выставление онлайн: 20 декабря 2004 г.
Исследованы электролюминесцентные свойства диодных светоизлучающих структур типа p+-Si/n-Si : Er/n+-Si, в которых тонкий слаболегированный слой n-Si : Er (ND~ 1016 cm-3) заключен между высоколегированными слоями кремния. Показано, что максимальная интенсивность ЭЛ ионов Er3+ достигается в структурах, работающих в режиме смешанного пробоя области пространственного заряда. Определена ширина "темновой" области (ddark~ 0.015-0.02 mum), в пределах которой электроны набирают энергию, необходимую для возбуждения ионов Er3+. Работа выполнена при финансовой поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (N 02-02-16773, 04-02-17120), INTAS (N 01-0194, 03-51-6486).
- G. Franzo, F. Priolo, S. Coffa, A. Polman, A. Carnera. Appl. Phys. Lett. 64, 17, 2235 (1994)
- N.A. Sobolev, A.M. Emel'yanov, K.F. Shtel'makh. Appl. Phys. Lett. 71, 14, 1930 (1997)
- В.Б. Шмагин, Д.Ю. Дроздов, З.Ф. Красильник, В.П. Кузнецов, В.Н. Шабанов, Л.В. Красильникова, Д.И. Крыжков, М.Н. Дроздов. ФТТ 46, 1, 110 (2004)
- С. Зи. Физика полупроводниковых приборов. Мир, М. (1984). Ч. 1. С. 113
- В.П. Кузнецов, Р.А. Рубцова. ФТП 34, 5, 519 (2000)
- Е.Н. Морозова, В.Б. Шмагин, З.Ф. Красильник, А.В. Антонов, В.П. Кузнецов, Р.А. Рубцова. Изв. РАН. Сер. физ. 67, 2, 283 (2003)
- В.И. Гаман. Физика полупроводниковых приборов. Томск (1989)
- M. Markmann, E. Neufeld, A. Sticht, K. Brunner, G. Abstreiter. Appl. Phys. Lett. 78, 2, 210 (2001)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.