Вышедшие номера
Термически активированные процессы перестройки в тонкопленочных структурах Yb--Si(111)
Крачино Т.В.1, Кузьмин М.В.1, Логинов М.В.1, Митцев М.А.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 25 февраля 1997 г.
Выставление онлайн: 20 августа 1997 г.
Методами электронной Оже-спектроскопии, дифракции медленных электронов и контактной разности потенциалов исследованы электронные свойства и механизмы формирования тонкопленочных структур Yb-Si(111), создаваемых путем напыления атомов Yb на поверхность Si(111)7x7 при комнатной температуре. Изучено также влияние прогрева до 800 K на свойства этих структур. Показано, что формирование границы раздела происходит по механизму Странского-Крастанова. Установлено, что прогрев системы Yb-Si(111) приводит к очень большому (до 1 eV) увеличению работы выхода при всех концентрациях атомов Yb на поверхности кремния. На адсорбционной стадии это увеличение обусловлено ростом 2D-доменов иттербия, сопровождающимся образованием поляризованных димеров из тех поверхностных атомов кремния, которые имеют ненасыщенные валентные связи. Диполи ориентированы таким образом, что общая энергия системы Yb-Si(111) при их образовании понижается, а работа выхода возрастает. На стадии силицидообразования увеличение работы выхода при прогреве обусловлено в конечном счете образованием на поверхности структуры Yb-Si(111) слоя атомов кремния.