Вышедшие номера
Особенности формирования пленок иттербия на поверхности Si(111) при комнатной температуре
Бутурович Д.В., Кузьмин М.В., Логинов М.В., Митцев М.А.
Поступила в редакцию: 17 мая 2007 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2007 г.

С помощью методов контактной разности потенциалов, электронной Оже-спектроскопии, дифракции медленных электронов и термодесорбционной спектроскопии исследованы процессы, сопровождающие формирование пленок иттербия на поверхности Si(111) при комнатной температуре. Показано, что растущие пленки металла однородны по толщине и что растворение атомов Si в них практически отсутствует. Установлено, что ограниченная диффузия атомов кремниевой подложки в металлическую пленку Yb может происходить только при облучении поверхности первичными пучками высокоэнергетических электронов, применяемых в методе электронной Оже-спектроскопии. На основании полученных результатов сделан вывод, что наблюдавшиеся нами ранее размерные осцилляции работы выхода в тонкопленочных структурах Yb-Si(111) не могут быть обусловлены растворением атомов кремния в осаждаемой пленке иттербия. Работа выполнена при поддержке Санкт-Петербургского научного центра РАН. PACS: 73.30.+y, 73.21.-b, 68.55.-a