Обсуждается возможность получения многослойных структур Со/Си с ультратонкими (менее 2-1 нм) слоями методом импульсного электролитического осаждения из одного электролита. На основе проведенных электронно-микроскопических, а также рентгено- и электронографических исследований анализируется строение указанных покрытий.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.