Ориентированный рост пленок SrTiO3 при ВЧ-магнетронном распылении
Балашова Е.В., Гольцман Б.М., Ефимова Т.П., Зайцева Н.В., Мосина Г.Н., Сорокин Л.М.
Выставление онлайн: 20 января 1993 г.
Рентгенодифракционным и электронно-микроскопическим методами исследована структура пленок титаната стронция, выращенных на подложках из кремния и сапфира ВЧ-магнетронным распылением. Показано, что в зависимости от интенсивности бомбардировки пленки частицами в плазме могут быть получены пленки с осевыми текстурами <111> или <100> либо пленки без текстуры. Образование текстур не связано с эпитаксиальным действием подложек. Отмечено, что бомбардировка ухудшает совершенство структуры пленок и их электрофизические характеристики.
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.