Проведено исследование собственной дефектной фотолюминесценции (ФЛ) пленок аморфного гидрогенизированного кремния (a-Si : H) при больших интенсивностях оптической накачки, приводящих к нагреву пленки. Обнаружено, что при коротких временах нагрева интенсивность дефектной ФЛ увеличивается с температурой экспоненциально с энергией активации, равной 0.85 eV, что существенно меньше энергии активации ~0.2 eV, полученной из экспериментов по классическому отжигу. Этот и другие экспериментальные результаты по температурной зависимости интенсивности и кинетике дефектной ФЛ объясняются в рамках модели "водородного стекла" термостимулированным рождением собственных дефектов аморфного кремния. Результаты расчетов хорошо согласуются с экспериментальными результатами по дефектной ФЛ, отражающей образование и аннигиляцию дефектов при коротких временах нагрева в присутствии оптического возбуждения. Работа поддержана программой ОФН РАН "Новые материалы и структуры" и программой Президиума РАН "Наноматериалы".

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.