ПЖТФ, 2007, том 33, выпуск 20

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Спектральная чувствительность твердого раствора (Si2)1-x(CdS)x

А.С.Саидов, Ш.Н.Усмонов, К.Т.Холиков, Д.Сапаров

Физико-технический институт АН РУз, Ташкент
E-mail: Sh

Поступило в Редакцию 13 марта 2007 г.

Методом жидкофазной эпитаксии из ограниченного объема оловянного раствора-расплава выращивались эпитаксиальные слои твердого раствора (Si2)1-x(CdS)x (0=< x=< 0.01) n-типа проводимости на pSi подложках. Исследованы спектральные зависимости фоточувствительности pSi-n(Si2)1-x(CdS)x структуры. Обнаружен пик чувствительности при E~2.35 eV, который, по-видимому, обусловлен уровнем молекул CdS, расположенным на 1.25 eV ниже потолка валентной зоны кремния.

PACS: 78.20.-e, 81.05.Hd

 PDF версия (135Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2007, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster