Вышедшие номера
Температурная стабильность тонкопленочных периодических структур IZO с градиентной модуляцией содержания кислорода по толщине
Russian Science Foundation, 22-19-00157
Ахмедов А.К.1, Асваров А.Ш.1, Мурлиев Э.К.1, Абдуев А.Х.2
1Институт физики им. Х.И. Амирханова ДФИЦ РАН, Махачкала, Россия
2Московский государственный университет просвещения, Москва, Россия
Email: cht-if-ran@mail.ru, abil-as@list.ru, a_abduev@mail.ru
Поступила в редакцию: 10 августа 2024 г.
В окончательной редакции: 13 ноября 2024 г.
Принята к печати: 13 ноября 2024 г.
Выставление онлайн: 14 марта 2025 г.

Путем периодического изменения содержания кислорода в составе рабочего газа в процессе высокочастотного магнетронного распыления мишени на основе In2O3 с добавкой 10 wt.% ZnO (IZO) получены тонкопленочные прозрачные периодические структуры высокой проводимости с градиентной модуляцией содержания кислорода по толщине. Исследована температурная стабильность электрических характеристик полученных структур при отжигах в вакууме и открытой атмосфере. Установлено, что в результате обоих отжигов сопротивление структуры растет. Показано, что при атмосферном отжиге рост сопротивления происходит преимущественно за счет снижения концентрации свободных электронов, обусловленного нейтрализацией вакансионных донорных центров атмосферным кислородом, а при вакуумном отжиге - за счет снижения их подвижности, обусловленного разрушением модулированной структуры пленки. Ключевые слова: магнетронное распыление, оксид индия, оксид цинка, тонкопленочная периодическая структура, градиентная модуляция, электрическое сопротивление.
  1. Y. Zhidik, A. Ivanova, S. Smirnov, K. Zhuk, I. Yunusov, P. Troyan, Coatings, 12 (12), 1868 (2022). DOI: 10.3390/coatings12121868
  2. H. Liu, V. Avrutin, N. Izyumskaya, U. Ozgur, H. Morko c, Superlat. Microstruct., 48, 458 (2010). DOI: 10.1016/j.spmi.2010.08.011
  3. Ю.С. Жидик, П.Е. Троян, В.В. Козик, С.А. Козюхин, А.В. Заболотская, С.А. Кузнецова, Изв. вузов. Физика, 63 (7), 31 (2020). DOI: 10.17223/00213411/63/7/31 [Y.S. Zhidik, P.E. Troyan, V.V. Kozik, S.A. Kozyukhin, A.V. Zabolotskaya, S.A. Kuznetsova, Russ. Phys. J., 63 (7), 1139 (2020). DOI: 10.1007/s11182-020-02167-4]
  4. D.C. Look, J.W. Hemsky, J.R. Sizelove, Phys. Rev. Lett., 82, 2552 (1999). DOI: 10.1103/PhysRevLett.82.2552
  5. A. Zunger, Appl. Phys. Lett., 83, 57 (2003). DOI: 10.1063/1.1584074
  6. R.J. Hamers, Nature, 412, 489 (2001). DOI: 10.1038/35087682
  7. Y. Liu, M. Pharr, G.A. Salvatore, ACS Nano, 11, 9614 (2017). DOI: 10.1021/acsnano.7b04898
  8. P. Zhao, S. Kim, S. Yoon, P. Song, Thin Solid Films, 665, 137 (2018). DOI: 10.1016/j.tsf.2018.09.018
  9. A.K. Akhmedov, A.Kh. Abduev, V.M. Kanevsky, A.E. Muslimov, A.Sh. Asvarov, Coating, 10 (3), 269 (2020). DOI: 10.3390/coatings10030269
  10. H. Hara, T. Hanada, T. Shiro, T. Yatabe, J. Vac. Sci. Technol. A, 22 (4), 1726 (2004). DOI: 10.1116/1.1692270
  11. S. Li, Z. Shi, Z. Tang, X. Li, Vacuum, 145, 262 (2017). DOI: 10.1016/j.vacuum.2017.09.011
  12. H. Hosono, J. Non-Cryst. Solids, 352, 851 (2006). DOI: 10.1016/j.jnoncrysol.2006.01.073
  13. A.K. Akhmedov, E.K. Murliev, A.Sh. Asvarov, A.E. Muslimov, V.M. Kanevsky, Coating, 12 (10), 1583 (2022). DOI: 10.3390/coatings12101583
  14. J.J. Robbins, C.A. Wolden, Appl. Phys. Lett., 83 (19), 3933 (2003). DOI: 10.1063/1.1625435
  15. A.K. Akhmedov, A.K. Abduev, E.K. Murliev, V.V. Belyaev, A.S. Asvarov, Materials, 16, 3740 (2023). DOI: 10.3390/ma16103740
  16. А.Ш. Асваров, А.К. Ахмедов, А.Э. Муслимов, В.М. Каневский, Письма в ЖТФ, 48 (2), 51 (2022). DOI: 10.21883/PJTF.2022.02.51914.19001 [A.Sh. Asvarov, A.K. Akhmedov, A.E. Muslimov, V.M. Kanevsky, Tech. Phys. Lett., 48 (1), 91 (2022). DOI: 10.21883/TPL.2022.01.52481.19001]

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.