Предложены критерии разработки магнетронных распылительных систем с расширенной зоной эрозии мишени и высокой стабильностью параметров технологического процесса. Установлено, что форма зоны эрозии определяется областью преобладания тангенциальной составляющей магнитного поля над нормальной. Для формирования расширенной зоны требуется разбалансировка магнитной системы, при которой площадь центрального магнита меньше площади внешнего кольцевого. В качестве критерия локализации плазмы тлеющего разряда предложено использовать распределение модуля магнитного поля на заданной высоте над поверхностью мишени. На основе сформулированных критериев разработана улучшенная модель магнетрона. Высокая стабильность технологического процесса роста пленок экспериментально подтверждена получением многослойных зеркал Cr/Sc с периодом 1.6 nm и числом периодов N=300. Дрейф периода за 4 h непрерывного процесса напыления составил менее 0.35 %. Ключевые слова: тонкие пленки, магнетрон, магнетронное напыление, тлеющий разряд, магнитное поле, дифрактометр, коэффициент отражения, рентгеновское излучение.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.