Вышедшие номера
Состояние дел в области разработки и изготовления многослойных зеркал нормального падения для мягкого рентгеновского и экстремального ультрафиолетового диапазонов
Российский научный фонд, 21-72-30029-П
Российский научный фонд, 21-72-20108-П
Полковников В.Н.1, Чхало Н.И.1
1Институт физики микроструктур РАН --- филиал Федерального исследовательского центра Институт прикладной физики им. А.В. Гапонова-Грехова РАН, Нижний Новгород, Россия
Email: polkovnikov@ipmras.ru
Поступила в редакцию: 11 июня 2026 г.
В окончательной редакции: 11 июня 2026 г.
Принята к печати: 11 июня 2026 г.
Выставление онлайн: 12 августа 2026 г.

Представлены результаты исследований, связанных с многослойными отражающими покрытиями рентгеновского и экстремального ультрафиолетового диапазонов длин волн. Основной упор сделан на последние опубликованные экспериментальные данные. Приведены лучшие достигнутые на данный момент значения коэффициентов отражения для многослойных рентгеновских зеркал в диапазоне длин волн 2-30 nm. Большое внимание уделяется применяемым в ИФМ РАН методам синтеза зеркал, а также исследованиям их свойств. Обсуждаются основные проблемы, возникающие при создании и исследовании свойств многослойных рентгеновских зеркал, и способы их решения. Показано, какие методы приводят к улучшению отражательных характеристик зеркал. Ключевые слова: тонкие пленки, многослойные зеркала, рентгеновское излучение, коэффициент отражения, шероховатость.
  1. R.-P. Haelbich, C. Kunz. Optics Commun., 17 (3), 287 (1976)
  2. A.F. Jankowski. Opt. Engineer., 29 (8), 968 (1990). DOI: 10.1117/12.55683
  3. H. Takenaka, T. Kawamura, H. Kinoshita. Thin Solid Films, 288 (1-2), 99 (1996). DOI: 10.1016/S0040-6090(96)08837-2
  4. E.Y. Jiang, H.L. Bai, R.Y. Tian, C.D. Wang. J. Appl. Phys., 81, 184 (1997). DOI: 10.1063/1.363839
  5. А.В. Виноградов, Б.Я. Зельдович. Опт. и спектр., 42 (4), 709 (1977)
  6. N. Ghafoor, F. Eriksson, E. Gullikson, L. Hultman, J. Birch. Appl. Phys. Lett., 92, 091913 (2008). DOI: 10.1063/1.2857459
  7. D.S. Kuznetsov, A.E. Yakshin, J.M. Sturm, R.W.E. van de Kruijs, E. Louis, F. Bijkerk. Opt. Lett., 40 (16), 3778 (2015). DOI: 10.1364/OL.40.003778
  8. C. Burcklen, S. de Rossi, E. Meltchakov, D. Denneti\`ere, B. Capitanio, F. Polack, F. Delmotte. Opt. Lett., 42 (10), 1927 (2017). DOI: 10.1364/OL.42.001927
  9. M. Prasciolu, A.F. Leontowich, K.R. Beyerlein, S. Bajt. Appl. Opt., 53 (10), 2126 (2014). DOI: 10.1364/AO.53.002126
  10. N. Kaiser, S. Yulin, M. Perske, T. Feigl. Proc. SPIE, 7101, 71010Z (2008). DOI: 10.1117/12.796150
  11. S. Braun, H. Mai, M. Moss, R. Scholz, A. Leson. Jpn. J. Appl. Phys., 41 (6), 4074 (2002). DOI: 10.1143/JJAP.41.4074
  12. S.S. Andreev, A.D. Akhsakhalyan, M.S. Bibishkin, N.I. Chkhalo, S.V. Gaponov, S.A. Gusev, E.B. Kluenkov, K.A. Prokhorov, N.N. Salashchenko, F. Schafers, S.Yu. Zuev. Central Europ. J. Phys., 1, 191 (2003). DOI: 10.2478/BF02475561
  13. С.А. Гарахин, И.Г. Забродин, С.Ю. Зуев, И.А. Каськов, А.Я. Лопатин, А.Н. Нечай, В.Н. Полковников, Н.Н. Салащенко, Н.Н. Цыбин, Н.И. Чхало, М.В. Свечников. Квант. электрон., 47 (4), 385 (2017)
  14. M. Svechnikov, D. Pariev, A. Nechay, N. Salashchenko, N. Chkhalo, Yu. Vainer, D. Gaman. J. Appl. Cryst., 50 (5), 1428 (2017)
  15. M. Svechnikov. J. Appl. Crystallogr., 53 (1), 244 (2020). DOI: 10.1107/S160057671901584X
  16. M.N. Drozdov, Y.N. Drozdov, N.I. Chkhalo, V.N. Polkovnikov, P.A. Yunin, M.V. Chirkin, G.P. Gololobov, D.V. Suvorov, D.J. Fu, V. Pelenovich, A. Tolstogouzov. Thin Solid Films, 661, 65 (2018). DOI: 10.1016/j.tsf.2018.07.013
  17. N. Kumar, R.S. Pleshkov, A.V. Nezhdanov, P.A. Yunin, V.N. Polkovnikov, N.I. Chkhalo, A.I. Mashin. Phys. Chem. Chem. Phys. 23, 23303 (2021)
  18. Комплексный спектрометр Thermo Fisher Scientific Escalab 250Xi --- РЦ " Физические методы исследования поверхности" [Electronic resource] --- URL: https://surface.spbu.ru/ru/oborudovanie/2-uncategorised/ 4-kompleksnyj-spektrometr-thermo-scientific-escalab-250xi.html
  19. НАНОФЭС [Electronic resource] http://kcsni.nrcki.ru/pages/main/sync/beamlines/nanopes/ index.shtml
  20. E.M. Gullikson, F. Salmassi, A.L. Aquila, F. Dollar. Progress in short period multilayer coatings for water window applications (Lawrence Berkeley National Laboratory, 2008). http://escholarship.org/uc/item/8hv7q0hj
  21. Q. Huang, J. Fei, Y. Liu, P. Li, M. Wen, C. Xie, P. Jonnard, A. Giglia, Z. Zhang, K. Wang, Z. Wang. Opt. Lett., 41 (4), 701 (2016). DOI: 10.1364/OL.41.000701
  22. R. Qi, Q. Huang, J. Fei, I.V. Kozhevnikov, Y. Liu, P. Li, Z. Zhang, Zh. Wang. Materials, 12 (18), 2936 (2019). DOI: https://doi.org/10.3390/ma12182936
  23. N. Ghafoor, Per O. Angstrem. Persson, J. Birch, F. Eriksson, F. Schafers. Appl. Opt., 45 (1), 37 (2006). DOI: 10.1364/AO.45.000137
  24. P. Sarkar, A. Biswas, S. Rai, H. Srivastava, S. Mandal, M.H. Modi, D. Bhattacharyya. Vacuum, 181, 109610 (2020). DOI: https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2020.109610
  25. С.А. Гарахин, Е.С. Антюшин, М.М. Барышева, А.Е. Пестов, В.Н. Полковников, Р.С. Плешков, Р.М. Смертин, Н.И. Чхало. ЖТФ, 94 (8), 1250 (2024). DOI: 10.61011/JTF.2024.08.58552.162-24
  26. E.A. Шамов, К.А. Прохоров, Н.Н. Салащенко. Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования, 9, 60 (1996)
  27. N.N. Salashchenko, E.A. Shamov. Opt. Сommun., 134 (1), 7 (1997). DOI: 10.1016/s0030-4018(96)00551-2
  28. F. Eriksson, G.A. Johansson, H.M. Hertz, E.M. Gullikson, U. Kreissig, J. Birch. Opt. Lett., 28, 2494 (2003). DOI: 10.1364/ol.28.002494
  29. F. Schafers, S. Yulin, T. Feigl, N. Kaiser. Proc. SPIE, 5188, 138 (2003)
  30. В.Н. Полковников, С.А. Гарахин, Д.С. Квашенников, И.В. Малышев, Н.Н. Салащенко, М.В. Свечников, Р.М. Смертин, Н.И. Чхало. ЖТФ, 90 (11), 1893 (2020). DOI: 10.21883/JTF.2020.11.49980.143-20
  31. T. Kuhlmann, S. Yulin, T. Feigl, N. Kaiser, T. Gorelik, U. Kaiser, W. Richter. Appl. Opt., 41, 2048 (2002). DOI: 10.1364/AO.41.002048
  32. A. Guggenmos, R. Rauhut, M. Hofstetter, S. Hertrich, B. Nickel, J. Schmidt, E.M. Gullikson, M. Seibald, W. Schnick, U. Kleineberg. Opt. Express, 21, 21728 (2013). DOI: 10.1364/OE.21.021728
  33. N. Ghafoor, F. Eriksson, E. Gullikson, L. Hultman, J. Birch. Appl. Phys. Lett., 92, 091913 (2008). DOI: 10.1063/1.2857459
  34. R.M. Smertin, M.M. Barysheva, N.I. Chkhalo, S.A. Garakhin, I.V. Malyshev, V.N. Polkovnikov. Opt. Express, 32 (15), 26583 (2024). DOI: 10.1364/OE.524921
  35. J.T. Zhu, B. Wang, Z. Zhang, H.C. Wang, Y. Xu, F.L. Wang, Z.S. Wang, L.Y. Chen, M.Q. Cui. X-Ray Lasers, 547 (2006). DOI: 10.1007/978-1-4020-6018-2_70
  36. M. Wen, L. Jiang, Z. Zhang, Q. Huang, Z. Wang, R. She, H. Feng, H. Wang. Thin Solid Films, 592, 262 (2015). DOI: 10.1016/j.tsf.2015.06.005
  37. S. Deng, H. Qi, K. Yi, Z. Fan, J. Shao. Appl. Surf. Sci., 255, 7434 (2009). DOI: 10.1016/j.apsusc.2009.04.014
  38. H. Takenaka, S. Ichimaru, K. Nagai, T. Ohchi, H. Ito, E.M. Gullikson. Surf. Interface Anal., 37, 181 (2005). DOI: 10.1002/sia.1959
  39. M. Niibe, M. Tsukamoto, T. Iizuka, A. Miyake, Y. Watanabe, Y. Fukuda. Intl. Symp. on Optical Fabrication, Testing, and Surface Evaluation (1992). DOI: 10.1117/12.132127
  40. J. Feng, Q. Huang, R. Qi, X. Xu, H. Zhou, T. Huo, A. Giglia, X. Yang, H. Wang, Z. Zhang, Z. Wang. Opt. Express, 27 (26), 38493 (2019). DOI: 10.1364/OE.27.038493
  41. S.S. Andreev, M.M. Barysheva, Yu.A. Vainer, P.K. Gaikovich, D.E. Pariev, A.E. Pestov, N.N. Salashchenko, N.I. Chkhalo. Surf. Thin Films, 58, 505 (2013). DOI: 10.1134/S1063774513030036
  42. S.S. Andreev, M.M. Barysheva, N.I. Chkhalo, S.A. Gusev, A.E. Pestov, V.N. Polkovnikov, D.N. Rogachev, N.N. Salashchenko, Yu.A. Vainer, S.Yu. Zuev. Tech. Phys., 55 (8), 168 (2010). DOI: 10.1134/S1063784210080153
  43. N.I. Chkhalo, S. Kunstner, V.N. Polkovnikov, N.N. Salashchenko, F. Schafers, S.D. Starikov. Appl. Phys. Lett., 102, 011602 (2013). DOI: 10.1063/1.4774298
  44. P. Naujok, S. Yulin, N. Kaiser, A. Tunnermann. Proc. SPIE, 9422, 94221K-1 (2015). DOI: 10.1117/12.2085764
  45. D.S. Kuznetsov, A.E. Yakshin, J.M. Sturm, R.W.E. van de Kruijs, E. Louis, F. Bijkerk. Opt. Lett., 40 (16), 3778 (2015). DOI: 10.1364/OL.40.003778
  46. T.D. Nguyen, R. Gronsky, J.B. Kortricht. Mat. Res. Soc. Symp. Proc., 280 (1993). DOI: 10.1557/PROC-280-161
  47. C. Borel, C. Morawe, A. Rommeveaux, C. Huguenot, J.-C. Peffen. Proc. SPIE, 6317, 63170I-1 (2006). DOI: 10.1117/12.678472
  48. C. Borel, C. Morawe, E. Ziegler, T. Bigault, J.-Y. Massonnat, J.-C. Peffen, E. Debourg. Proc. SPIE, 5918, 591801 (2005). DOI: 10.1117/12.613873
  49. Q. Huang, Y. Liu, Y. Yang, R. Qi, Y. Feng, I.V. Kozhevnikov, W. Li, Z. Zhang, H. Jiang, L. Zhang, A. Li, J. Wang, Z. Wang. Opt. Express, 26 (17), 21803 (2018). DOI: 10.1364/OE.26.021803
  50. Р.А. Шапошников, В.Н. Полковников, Н.И. Чхало, С.А. Гарахин. Письма в ЖТФ, 51 (1), 57 (2025). DOI: 10.61011/PJTF.2025.01.59524.20075
  51. D. Martinez-Galarce, R. Soufli, D.L. Windt, M. Bruner, E. Gullikson, S. Khatri, E. Spiller, J.C. Robinson, S. Baker, E. Prast. Opt. Eng., 59 (2), 095102-1 (2013). DOI: 10.1117/1.OE.52.9.095102
  52. N.I. Chkhalo, N.N. Salashchenko. AIP Advances, 3 (8), 082130 (2013). DOI: 10.1063/1.4820354
  53. A.N. Nechay, S.A. Garakhin, A.Ya. Lopatin, V.N. Polkovnikov, D.G. Reunov, N.N. Salashchenko, M.N. Toropov, N.I. Chkhalo, N.N. Tsybin. Quant. Electron., 50 (4), 408 (2020). DOI: 10.1070/QEL17269
  54. N.I. Chkhalo, S.A. Garakhin, A.Ya. Lopatin, A.N. Nechay, A.E. Pestov, V.N. Polkovnikov, N.N. Salashchenko, N.N. Tsybin, S.Yu. Zuev. AIP Advances, 8, 105003 (2018). DOI: 10.1063/1.5048288
  55. Z. Wang, H. Wang, J. Zhu, Y. Xu, S. Zhang, C. Li, W. Fengli, Z. Zhang, Y. Wu, X. Cheng, L. Chen, A. Michette, S.J. Pfauntsch, A.K. Powell, F. Schafers, A. Gaupp, M.A. Macdonald. Appl. Phys. Lett., 89, 241120 (2006). DOI: 10.1063/1.2405874
  56. P. Gupta, T.P. Tenka, S. Rai, M. Nayak, G. Lodha. J. Phys. D: Appl. Phys., 40, 6684 (2007). DOI: 10.1088/0022-3727/40/21/030
  57. Д.С. Квашенников, Ю.А. Вайнер, С.Ю. Зуев, В.Н. Полковников. Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования, 3, 14 (2019). DOI: 10.1134/S0207352819030119
  58. A.J. Corso, M.G. Pelizzo. J. Nanosci. Nanotechnol., 19 (1), 532 (2019). DOI: 10.1166/jnn.2019.16477
  59. D.L. Windt, E.M. Gullikson. Appl. Opt., 54 (18), 5850 (2015). DOI: 10.1364/AO.54.005850
  60. C. Montcalm, P.A. Kearney, J.M. Slaughter, B.T. Sullivan, M. Chaker, H. Pepin, C.M. Falco. Appl. Opt., 35 (25), 5134 (1996). DOI: 10.1364/AO.35.005134
  61. Д.С. Квашенников, С.Ю. Зуев, В.Н. Полковников, Н.Н. Салащенко, Н.И. Чхало, F. Delmotte, E. Meltchakov. ЖТФ, 89 (11), 1778 (2019). DOI: 10.21883/JTF.2019.11.48343.129-19
  62. D.L. Windt, S. Donguy, J. Seely, B. Kjornrattanawanich, E.M. Gullikson, C.C. Walton, L. Golub, E. DeLuca. Proceed. SPIE, 5168, 1 (2004)
  63. M.M. Barysheva, A.E. Pestov, N.N. Salashchenko, M.N. Toropov, N.I. Chkhalo. Physics-Uspekhi, 55 (7), 681 (2012). DOI: 10.3367/UFNe.0182.201207c.0727
  64. V.N. Polkovnikov, R.A. Shaposhnikov, S.Yu. Zuev, M.V. Svechnikov, M.G. Sertsu, A. Sokolov, F. Schafers, N.I. Chkhalo. Opt. Express, 30 (11), 19332 (2022). DOI: 10.1364/OE.448069
  65. B. Sae-Lao, C. Montcalm. Opt. Lett., 26 (7), 468 (2001). DOI: 10.1364/OL.26.000468
  66. R.A. Shaposhnikov, V.N. Polkovnikov, N.N. Salashchenko, N.I. Chkhalo, S.Yu. Zuev. Opt. Lett., 47 (17), 4351 (2022). DOI: 10.1364/OL.469260
  67. C. Montcalm, S. Bajt, P.B. Mirkarimi, E.A. Spiller, F.J. Weber, J.A. Folta. Proc. SPIE 3331, Emerging Lithographic Technologies II (1998)
  68. S. Bajt, R.D. Behymer, P.B. Mirkarimi, C. Montcalm, M.A. Wall. SPIE, 3767, 259 (1999). DOI: 10.1117/12.371125
  69. P.B. Mirkarimi. Opt. Engineer., 38 (7), 1246 (1999). DOI: 10.1117/1.602170
  70. A.N. Nechay, N.I. Chkhalo, M.N. Drozdov, S.A. Garakhin, D.E. Pariev, V.N. Polkovnikov, N.N. Salashchenko, M.V. Svechnikov, Yu.A. Vainer, E. Meltchakov, F. Delmotte. AIP Advances, 8, 075202 (2018). DOI: 10.1063/1.5007008
  71. M.V. Svechnikov, N.I. Chkhalo, S.A. Gusev, A.N. Nechay, D.E. Pariev, A.E. Pestov, V.N. Polkovnikov, D.A. Tatarskiy, N.N. Salashchenko, F. Schafers, M.G. Sertsu, A. Sokolov, Y.A. Vainer, M.V. Zorina. Opt. Express, 26 (26), 33718 (2018). DOI: 10.1364/OE.26.033718
  72. S. Bajt. J. Vacuum Sci. Technol. A, 18 (2), 557 (2000). DOI: 10.1116/1.582224
  73. R.M. Smertin, N.I. Chkhalo, M.N. Drozdov, S.A. Garakhin, S.Yu. Zuev, V.N. Polkovnikov, N.N. Salashchenko, P.A. Yunin. Opt. Express, 30 (26), 46749 (2022). DOI: 10.1364/OE.475079
  74. R. Smertin, N. Chkhalo, S. Garakhin, V. Polkovnikov, S. Zuev. Opt. Lett., 49 (13), 3690 (2024). DOI: 10.1364/OL.528271
  75. T.W. Barbee, S. Mrowka, M.C. Hettrick. Appl. Opt., 24 (6), 883 (1985). DOI: 10.1364/AO.24.000883
  76. A.K. Petford-Long, M.B. Stearns, C.H. Chang, S.R. Nutt, D.G. Stearns, N.M. Cegiio, A.M. Hawryluk. J. Appl. Phys., 61 (4), 1422 (1987)
  77. R.S. Rosen, D.G. Stearns, M.A. Viliardos, M.E. Kassner, S.P. Vernon, Y. Cheng. Appl. Opt., 32 (34), 6975 (1993). DOI: 10.1364/AO.32.006975
  78. J.M. Slaughter, P.A. Kearney, D.W. Schulze, C.M. Falco, C.R. Hills, E.B. Saloman, R.N. Watts. Proc. SPIE, 1343, 73 (1990). DOI: 10.1117/12.23177
  79. J.M. Slaughter, D.W. Schulze, C.R. Hills, A. Mirone, R. Stalio, R.N. Watts, C. Tarrio, T.B. Lucatorto, M. Krumrey, P. Mueller, C.M. Falco. J. Appl. Phys., 76 (4), 2144 (1994). DOI: 10.1063/1.357626
  80. D.G. Stearns, R.S. Rosen, S.P. Vernon. Appl. Opt., 32 (34), 6952 (1993). DOI: 10.1364/AO.32.006952
  81. S.S. Andreev, S.V. Gaponova, S.A. Gusev, M.N. Haidl, E.B. Kluenkov, K.A. Prokhorov, N.I. Polushkin, E.N. Sadova, N.N. Salashchenko, L.A. Suslov, S.Yu. Zuev. Thin Solid Films, 415, 123 (2002). DOI: 10.1016/S0040-6090(02)00536-9
  82. S. Braun, H. Mai, M. Moss. Jpn. J. Appl. Phys., 41, 4074 (2002). DOI: 10.1143/JJAP.41.4074
  83. I. Nedelcu, R.W.E. van de Kruijs, A.E. Yakshin, E. Louis, F. Bijkerk, S. Mullender. Proc. SPIE, 6517, 65170I (2007). DOI: 10.1117/12.712176
  84. N.I. Chkhalo, S.A. Gusev, A.N. Nechay, D.E. Pariev, V.N. Polkovnikov, N.N. Salashchenko, F. Schafers, M.G. Sertsu, A. Sokolov, M.V. Svechnikov, D.A. Tatarsky. Opt. Lett., 42 (24), 5070 (2017). DOI: 10.1364/OL.42.005070
  85. D.L. Windt. Proc. SPIE, 3448, 280 (1998). DOI: 10.1117/12.332515
  86. D.L. Windt, J.A. Bellotti. Appl. Opt., 48 (26), 4932 (2009). DOI: 10.1364/AO.48.004932
  87. P. Jonnard, K. Le Guen, M.-H. Hu, J.-M. Andre, E. Meltchakov, C. Hecquet, F. Delmotte, A. Galtayries. Proc. SPIE, 7360, 73600O-1 (2009). DOI: 10.1117/12.820913
  88. E. Meltchakov, C. Hecquet, M. Roulliay, S. De Rossi, Y. Menesguen, A. J\`erome, F. Bridou, F. Varniere, M.-F. Ravet-Krill, F. Delmotte. Appl. Phys. A, 98, 111 (2010). DOI: 10.1007/s00339-009-5445-2
  89. A. Galtayries, M.-H. Hu, K. Le Guen, J.-M. Andre, P. Jonnard, E. Meltchakov, C. Hecquet, F. Delmotte. Surf. Interface Analysis, 42 (6), 653 (2010). DOI: 10.1002/SIA.3393
  90. H. Nii, M. Niibe, H. Kinoshita, Y. Sugie. J. Synchrotron Radiat., 5 (3), 702 (1998). DOI: 10.1107/S0909049597019407
  91. H. Nii, M. Miyagawa, Y. Matsuo, Y. Sugie, M. Niibe, H. Kinoshita. Jpn. J. Appl. Phys., 41, 5338 (2002). DOI: 10.1143/JJAP.41.5338
  92. E. Meltchakova, A. Ziani, F. Auchere, X. Zhang, M. Roulliay, S. De Rossi, Ch. Bourassin-Bouchet, A. Jerome, F. Bridou, F. Varniere, F. Delmotte. Proc. SPIE, 8168, 816819-1 (2011). DOI: 10.1117/12.896577
  93. M.-H. Hu, K. Le Guen, J.M. Andre, P. Jonnard, E. Meltchakov, F. Delmotte, A. Galtayries. Opt. Express, 18 (19), 20019 (2010). DOI: 10.1364/OE.18.020019
  94. С.Ю. Зуев, С.В. Кузин, В.Н. Полковников, Н.Н. Салащенко. Известия РАН. Серия физическая, 74 (1), 58 (2010)
  95. S.A. Bogachev, N.I. Chkhalo, S.V. Kuzin, D.E. Pariev, V.N. Polkovnikov, N.N. Salashchenko, S.V. Shestov, S.Y. Zuev. Appl. Opt., 55 (9), 2126 (2016). DOI: 10.1364/AO.55.002126
  96. N.I. Chkhalo, D.E. Pariev, V.N. Polkovnikov, N.N. Salashchenko, R.A. Shaposhnikov, I.L. Stroulea, M.V. Svechnikov, Yu.A. Vainer, S.Yu. Zuev. Thin Solid Films, 631, 106 (2017). DOI: 10.1016/j.tsf.2017.04.020
  97. V.N. Polkovnikov, N.I. Chkhalo, S.A. Garakhin, N.N. Salashchenko, S.Yu. Zuev. Opt. Lett., 49 (16), 4577 (2024). DOI: 10.1364/OL.534480
  98. N. Chkhalo, A. Lopatin, A. Nechay, D. Pariev, A. Pestov, V. Polkovnikov, N. Salashchenko, F. Schafers, M. Sertsu, A. Sokolov, M. Svechnikov, N. Tsybin, S. Zuev. J. Nanosci. Nanotechnol., 19, 546 (2019). DOI: 10.1166/jnn.2019.16474
  99. В.Н. Полковников, Н.Н. Салащенко, М.В. Свечников, Н.И. Чхало. УФН, 190, 92 (2020). DOI: 10.3367/UFNr.2019.05.038623
  100. J. Zhu, S. Zhou, H. Li, Q. Huang, Z. Wang, K. Le Guen, M.-H. Hu, J.-M. Andre, P. Jonnard. Appl. Opt., 49 (20), 3922 (2010). DOI: 10.1364/AO.49.003922
  101. P. Zuppella, A.J. Corso, P. Nicolosi, D.L. Windt, M.G. Pelizzo. Proc. SPIE, 8076, 807608-1 (2011). DOI: 10.1117/12.886853
  102. V.N. Polkovnikov, N.I. Chkhalo, R.S. Pleshkov, N.N. Salashchenko, F. Schafers, M.G. Sertsu, A. Sokolov, M.V. Svechnikov, S.Yu. Zuev. Opt. Lett., 44 (2), 263 (2019). DOI: 10.1364/OL.44.000263

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.