Вышедшие номера
Характеристики спиновых светоизлучающих диодов, полученных с использованием углеродных слоев
Работа поддержана Российским научным фондом , №25-29-00368
Калентьева И.Л.1, Ведь М.В.1, Вихрова О.В.1, Данилов Ю.А.1, Демина П.Б.1, Дорохин М.В.1, Здоровейщев А.В.1, Лесников В.П.1, Нежданов А.В.1
1Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, Россия
Email: istery@rambler.ru
Поступила в редакцию: 24 апреля 2026 г.
В окончательной редакции: 24 апреля 2026 г.
Принята к печати: 24 апреля 2026 г.
Выставление онлайн: 14 июля 2026 г.

Проведены комплексные исследования лабораторных образцов спиновых светоизлучающих диодов на основе арсенид-галлиевых структур, имеющих в составе контакта наноразмерный углеродный слой, полученный методом импульсного лазерного нанесения. Показано, что введение углеродного слоя в структуру диода с ферромагнитным инжектором на основе сплава Co0.45Pt0.55 способствует значительному повышению интенсивности электролюминесценции светодиодов, снижению их рабочих токов и повышению температуры эксплуатации (интенсивное излучение сохраняется до комнатной температуры). Ключевые слова: спиновый светоизлучающий диод, импульсное лазерное нанесение, углеродный слой, электролюминесценция.
  1. А.В. Здоровейщев, М.В. Дорохин, О.В. Вихрова, П.Б. Демина, А.В. Кудрин, А.Г. Темирязев, М.П. Темирязева. ФТТ, 58 (11), 2186 (2016). DOI: 10.21883/ftt.2016.11.43737.8k [A.V. Zdoroveyshchev, M.V. Dorokhin, O.V. Vikhrova, P.B. Demina, A.V. Kudrin, A.G. Temiryazev, M.P. Temiryazeva. Phys. Solid State, 58 (11), 2267 (2016). DOI: 10.1134/s1063783416110391]
  2. Ю.А. Данилов, М.В. Ведь, О.В. Вихрова, Н.В. Дикарева, М.Н. Дроздов, Б.Н. Звонков, В.А. Ковальский, Р.Н. Крюков, А.В. Кудрин, В.П. Лесников, П.А. Юнин, А.М. Андреев. ФТП, 54 (9), 868 (2020). DOI: 10.21883/ftp.2020.09.49823.15 [Yu.A. Danilov, M.V. Ved', O.V. Vikhrova, N.V. Dikareva, M.N. Drozdov, B.N. Zvonkov, V.A. Koval'skii, R.N. Kryukov, A.V. Kudrin, V.P. Lesnikov, P.A. Yunin, A.M. Andreev. Semiconductors, 54 (9), 868 (2020). DOI: 10.1134/s1063782620090079]
  3. Z. Tao, D. Zhou, H. Yin, B. Cai, T. Huo, J. Ma, Z. Di, N. Hu, Z. Yang, Y. Su. Mater. Sci. Semicond. Process., 111, 104989 (2020). DOI: 10.1016/j.mssp.2020.104989
  4. X. Yu, Y. Dai, Y. Lu, C. Liu, Y. Yan, R. Shen, Z. Yang, L. Feng, L. Sun, Y. Liu, S. Lin. Adv. Sci., 10, 2204058 (2023). DOI: 10.1002/advs.202204058
  5. M.V. Dorokhin, O.V. Vikhrova, P.B. Demina, I.L. Kalentyeva, P.S. Vergeles, E.B. Yakimov, V.P. Lesnikov, B.N. Zvonkov, M.V. Ved, Yu.A. Danilov, A.V. Zdoroveyshchev. Appl. Radiation Isotopes, 179, 110030 (2022). DOI: 10.1016/j.apradiso.2021.110030
  6. O.V. Vikhrova, M.V. Dorokhin, Yu.A. Danilov, V.P. Lesnikov, P.B. Demina, N.V. Dikareva, M.V. Ved', A.V. Zdoroveyshchev, I.L. Kalentyeva, R.N. Kriukov, A.V. Nezhdanov. Opt. Mater., 174, 117899 (2026). DOI: 10.1016/j.optmat.2026.117899
  7. A.C. Ferrari. Solid State Commun., 143, 47 (2007). DOI: 10.1016/j.ssc.2007.03.052
  8. A.C. Ferrari, D.M. Basko. Nature Nanotechnology, 8, 235 (2013). DOI: 10.1038/nnano.2013.46
  9. X. Li, S. Lin, X. Lin, Z. Xu, P. Wang, S. Zhang, H. Zhong, W. Xu, Z. Wu, W. Fang. Opt. Express, 24 (1), 134 (2016). DOI: 10.1364/oe.24.000134
  10. S.J. Zhang, S.S. Lin, X.Q. Li, X.Y. Liu, H.A. Wu, W.L. Xu, P. Wang, Z.Q. Wu, H.K. Zhong, Z.J. Xu. Nanoscale, 8, 226 (2016). DOI: 10.1039/c5nr06345k
  11. S. Tongay, M. Lemaitre, X. Miao, B. Gila, B.R. Appleton, A.F. Hebard. Phys. Rev. X, 2, 011002 (2012). DOI: 10.1103/physrevx.2.011002
  12. C.-C. Tang, M.-Y. Li, L.J. Li, C.C. Chi, J.-C. Chen. Appl. Phys. Lett., 101, 202104 (2012). DOI: 10.1063/1.4767387
  13. U. Khan, N.O. Adesina, J. Xu. Key Engineer. Mater., 907, 24 (2022). DOI: 10.4028/www.scientific.net/kem.907.24
  14. D.K. Schroder. Semiconductor material and device characterization (Wiley, Hoboken, New Jersey, 2006), DOI: 10.1002/0471749095
  15. Электронный ресурс. Режим доступа: http://www.matprop.ru/GaAs_basic
  16. Z.A. Ansari, T.J. Singh, S.M. Islam, S. Singh, P. Mahala, A. Khang, K.J. Singh. Optik, 182, 500 (2019). DOI: 10.1016/j.ijleo.2019.01.078
  17. B.G. Singidas, A.E. De los Reyes, H.R. Bardolaza, J.D.E. Vasquez, A.A. Salvador, E.S. Estacio, R.V. Sarmago. Appl. Phys. Lett., 117, 171105 (2020). DOI: 10.1063/5.0015145
  18. H.H. Yoon, W. Song, S. Jung, J. Kim, K. Mo, G. Choi, H.Y. Jeong, J.H. Lee, K. Park. ACS Appl. Mater. Interfaces, 11, 47182 (2019). DOI: 10.1021/acsami.9b12074
  19. Q.N.D. Lung, R.J. Chu, E. Yeon, Y. Kim, M.A. Madarang, W.J. Choi, D. Jung. Adv. Mater. Interfaces, 12, 2401011 (2025). DOI: 10.1002/admi.202401011