Журнал технической физики
Авторам
Вышедшие номера
- 2024
- 2023
- 2022
- 2021
- 2020
- 2019
- 2018
- 2017
- 2016
- 2015
- 2014
- 2013
- 2012
- 2011
- 2010
- 2009
- 2008
- 2007
- 2006
- 2005
- 2004
- 2003
- 2002
- 2001
- 2000
- 1999
- 1998
- 1997
- 1996
- 1995
- 1994
- 1993
- 1992
- 1991
- 1990
- 1989
- 1988
Безмасочный литограф прямого рисования. Конструкция, устройство и применение
Российский научный фонд, 21-72-30029
Министерство образования и науки Российской Федерации, FFUF-2024-0022
1Институт физики микроструктур Российской академии наук, Нижний Новгород, Россия 
Email: artuhov@ipmras.ru, artuhov@
Поступила в редакцию: 13 мая 2024 г.
В окончательной редакции: 13 мая 2024 г.
Принята к печати: 13 мая 2024 г.
Выставление онлайн: 27 июля 2024 г.
Представлены результаты разработки безмасочного литографа прямого рисования, который позволил сформировать "окна" в фоторезистивном слое пучком диаметром 10 μm, с точностью перемещения до 2.5 μm и ровностью края до 10 μm. Описаны техническое устройство литографа, принцип работы основных узлов прибора. Для управления литографом было специально разработано программное обеспечение. Разработанный прибор был успешно апробирован для выполнения ряда технических задач, в том числе и для изготовления многослойных многостриповых рентгеновских зеркал. Ключевые слова: безмасочный литограф прямого рисования, оптическая система, многослойное, многостриповое рентгеновское зеркало.
- S.S. Morozov, S.A. Garakhin, N.I. Chkhalo. J. Surf. Investigation: X-ray, Synchrotron Neutron Techniques, 17 (1), S250 (2023). DOI: 10.1134/S1027451023070340
- Н.И. Чхало, С.А. Гарахин, И.В. Малышев, В.Н. Полковников, М.Н. Торопов, Н.Н. Салащенко, Б.А. Уласевич, Я.В. Ракшун, В.А. Чернов, И.П. Долбня, С.В. Ращенко. ЖТФ, 92 (8), 1261 (2022). DOI: 10.61011/JTF.2024.08.58557.165-24
- С.С. Морозов, Г.Д. Антышева, Н.И. Чхало. Материалы симпозиума " Нанофизика и наноэлектроника --- 2024" (Нижний Новгород ИПФ РАН, Россия, 2024), т. 1, с. 492
- M. Schuster, H. Gobel. J. Phys. D: Appl. Phys., 28 (4A), A270 (1995)
- М.М. Барышева, И.В. Малышев, В.Н. Полковников, Н.Н. Салащенко, М.В. Свечников, Н.И. Чхало. Квантовая электроника, 50 (4), 401 (2020)
- R. Shaposhnikov, V. Polkovnikov, S. Garakhin, Y. Vainer, N. Chkhalo, R. Smertin, K. Durov, E. Glushkov, S. Yakunin, M. Borisov. J. Synchrotron Rad., 31, 268 (2024)
- C. Morawe, R. Barrett, K. Friedrich, R. Klunder, A. Vivo. J. Phys. Conf. Ser., 425, 052027 (2013)
- P.C. Pradhan, A. Majhi, M. Nayak. J. Appl. Phys., 123, 095302 (2018). DOI.org/10.1063/1.5018266
- R. Pleshkov, N. Chkhalo, V. Polkovnikov, M. Svechnikov, M. Zorina. J. Appl. Crystal., 54 (6), 1747 (2021). DOI.org/10.1107/S160057672101027X
- Д.Г. Реунов, Н.С. Гусев, М.С. Михайленко, Д.В. Петрова, И.В. Малышев, Н.И. Чхало, ЖТФ, 93 (13), 1032 (2023). DOI: 10.61011/JTF.2024.08.58557.165-24
- N.I. Chkhalo, A.E. Pestov, N.N. Salashchenko, A.V. Sherbakov, E.V. Skorokhodov, M.V. Svechnikov. Rev. Sci. Instrum., 86, 063701 (2015). DOI.org/10.1063/1.4921849
