Вышедшие номера
Влияние анизотропии на термоупругие напряжения в цилиндрических кристаллах оксида галлия, выращиваемых из расплава
Бахолдин С.И.1, Галактионов Е.В. 1, Крымов В.М. 1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: s.bakholdin@mail.ioffe.ru, evgalakt@mail.ru, V.Krymov@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 11 мая 2023 г.
В окончательной редакции: 11 сентября 2023 г.
Принята к печати: 30 октября 2023 г.
Выставление онлайн: 8 декабря 2023 г.

Исследование термических напряжений в кристаллах, выращиваемых из расплава, имеет большое значение для оптимизации режимов роста. Появление новых перспективных материалов, таких как оксид галлия, требует проведения расчетов напряжений с учетом анизотропии тепловых и упругих свойств материала. Проведено исследование влияния анизотропии на распределение термоупругих напряжений в тонких кристаллических стержнях оксида галлия. Приведены приближенные формулы для компонент тензора напряжений, полученные с помощью асимптотического интегрирования уравнений термоупругости с учетом прямолинейной анизотропии общего вида. Проведено сравнение величин напряжений для двух направлений выращивания. Показано, что выбор ориентации направления выращивания позволяет управлять величиной и распределением термоупругих напряжений, возникающих в кристаллах оксида галлия при их выращивании из расплава. Ключевые слова: термоупругие напряжения, асимптотический метод, анизотропия тепловых и упругих свойств.
  1. Z. Galazka, S. Ganschow, K. Irmschera, D. Klimm, M. Albrecht, R. Schewski, M. Petsch, T.Schulz, A. Dittmar, A. Kwasnievwski, R. Grueneberg, S.B. Anooz, A. Popp, U. Juda, I.M. Hanke, Th. Schroeder, M. Bickermann. Progr. Crystal Growth Character. Mater., 67 (1), 100511 (2021). DOI: 10.1016/j.pcrysgrow.2020
  2. S.I. Stepanov, V.I. Nikolaev, V.E. Bougrov, A.E. Romanov. Adv. Mater. Sci., 44, 63 (2016)
  3. Z. Galazka, K. Irmscher, R. Uecker, R. Bertram, M. Pietsch, A. Kwasniewski, M. Naumann, T. Schulz, R. Schewski, D. Klimm, M. Bickermann. J. Crystal Growth, 404, 184 (2014). DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2014.07.021
  4. Z. Galazka. J. Appl. Phys., 131, 031103 (2022). DOI: 10.1063/5.0076962
  5. J. D. Blevins, K. Stevens, A. Lindsey, G. Foundos, L. Sande. IEEE Transactions on Semicond. Manufacturing, 32 (4), 466 (2019). DOI: 10.1109/TSM.2019.2944526
  6. W. Mu, Z. Jia, Y. Yin, B. Fu, J. Zhang, J. Zhanga, X Tao. Cryst. Eng. Comm., 21, 2762 (2019). DOI: 10.1039/C8CE02189A
  7. W. Miller, K. Bottcher, Z. Galazka, J. Schreuer. Crystals, 7(1), 26 (2017). DOI: 10.3390/cryst7010026
  8. D. Wu, N. Xia, K. Ma, J. Wang, Ch. Li, Z. Jin, H. Zhang, D. Yang. Crystals, 12 (12), 1715 (2022). DOI: 10.3390/cryst12121715
  9. X. Tang, B. Liu, Y. Yu, Sh. Liu, B. Gao. Crystals, 11 (1), 25 (2021). DOI: 10.3390/cryst11010025
  10. P.I. Antonov, S.I. Bakholdin, E.V. Galaktionov, E.V. Tropp, S.P. Nikanorov. J. Crystal Growth, 52 (1), 404 (1981). DOI: 10.1016/0022-0248(81)90226-8
  11. И.Е. Зино, Э.А. Тропп. Асимптотические метолы в задачах теории теплопроводности и термоупругости (Изд-во ЛГУ, Л., 1978)

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.