Вышедшие номера
Home » Журнал технической физики » Год 2020, выпуск 7 » Статья стр. 1076
<<<>>>
Динамика подъема скользящей дуги в униполярной лестнице Иакова
DOI: 10.21883/JTF.2020.07.49439.408-19
Переводная версия: 10.1134/S1063784220070038
Алмазова К.И.1, Белоногов А.Н.1, Боровков В.В.1, Горелов Е.В.1, Дубинов А.Е. 1,2, Клюшин Д.С.2, Морозов И.В.1
1Российский федеральный ядерный центр --- Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики, Саров, Нижегородская обл., Россия
2Саровский физико-технический институт --- филиал Национального исследовательского ядерного университета МИФИ, Саров, Нижегородская область, Россия
Email: dubinov-ae@yandex.ru
Поступила в редакцию: 14 декабря 2019 г.
В окончательной редакции: 14 декабря 2019 г.
Принята к печати: 22 января 2020 г.
Выставление онлайн: 7 апреля 2020 г.
PDF версия
Создан прибор со скользящей униполярной дугой типа лестницы Иакова. Исследована динамика подъема дуги и получено, что на большей части пути движение дуги происходит с постоянной скоростью. Показана конвективная природа подъема дуги за счет нагрева воздуха плазмой. Получена зависимость скорости подъема дуги от угла раствора между электродами. Зависимость оказалась спадающей. Ключевые слова: униполярная дуга, лестница Иакова, подъем дуги, конвекция.
  1. Naville A.A., Guye P.A., Guye C.E. French Patent N 350120, 1904
  2. Du C.M., Wang J., Zhang L., Li H.X., Liu H., Xiong Y. // New J. Phys. 2012. Vol. 14. N 1. P. 013010
  3. Du C., Tang J., Mo J., Ma D., Wang J., Wang K., Zeng Y. // IEEE Tr. Plasma Sci. 2014. Vol. 42. N 9. P. 2221
  4. Selerowicz W., Piechna J., Opalinska T., Ulejczyk B. // IEEE Tr. Plasma Sci. 2011. Vol. 39. N 11. P. 2866
  5. Thanompongchart P., Khongkrapan P., Tippayawong N. // Per. Pol. Chem. Eng. 2014. Vol. 58. N 1. P. 31
  6. Du C.M., Yan J.H., Li X.D., Cheron B.G., You X.F., Chi Y., Ni M.J., Cen K.F. // Plasma Chem. Plasma Proc. 2006. Vol. 26. N 5. P. 517
  7. Burlica R., Finney W.C., Locke B.R. // IEEE Tr. Ind. Appl. 2013. Vol. 49. N 3. P. 1098
  8. Zhang J., Chen J., Li X. // J. Water Res. Protect. 2009. Vol. 1. N 2. P. 99
  9. Garduno-Aparicio M., Estrada-Martinez N., Pacheco-Sotelo J., Pacheco-Pacheco M., Garcia-Ramirez M., Valdivia-Barrientos R., Rivera-Rodriguez C., Gonzalez J.-J. // IEEE Tr. Plasma Sci. 2011. Vol. 39. N 11. P. 2890
  10. Kusano Y., Srensen B.F., Andersen T.L., Toftegaard H.L., Leipold F., Salewski M., Sun Z., Zhu J., Li Z., Alden M. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2013. Vol. 46. N 13. P. 135203
  11. Cerny P., Bartos P., Olsan P., Spatenka P. // Current Appl. Phys. 2019. Vol. 19. N 2. P. 128
  12. Roy N.C., Hasan M.N., Kabir A.H., Reza M.A., Talukder M.R., Chowdhury A.N. // Plasma Sci. Technol. 2018. Vol. 20. N 11. P. 115501
  13. Larsson A., Adelow L., Elfsberg M., Hurtig T. // IEEE Tr. Plasma Sci. 2014. Vol. 42. N 10. P. 3186
  14. Potovcvnakova L., vSperka J., Zikan P., van Loon J.J.W.A., Beckers J., Kudrle V. // IEEE Tr. Plasma Sci. 2014. Vol. 42. N 10. P. 2724
  15. Guan R., Jia Z., Fan S., Zhang X., Wang T., Deng Y. // IEEE Tr. Plasma Sci. 2019. Vol. 47. N 10. P. 4721
  16. Mitsugi F., Ohshima T., Kawasaki H., Kawasaki T., Aoqui S.-I., Baba T., Kinouchi S. // IEEE Tr. Plasma Sci. 2014. Vol. 42. N 10. P. 3681
  17. Zhu J., Gao J., Li Z., Ehn A., Alden M., Larsson A., Kusano Y. // Appl. Phys. Lett. Vol. 105. N 23. P. 234102
  18. Richard F., Cormier J.M., Pellerin S., Chapelle J. // J. Appl. Phys. 1996. Vol. 79. N 5. P. 2245
  19. Бублиевский А.Ф., Галиновский А.А., Горбунов А.В., Жданок С.А., Коваль В.А., Шараховский Л.И., Долголенко Г.В., Скоморохов Д.С. // ИФЖ. 2006. Т. 79. N 4. С. 3
  20. Balcon N., Benard N., Braud P., Mizuno A., Touchard G., Moreau E. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2008. Vol. 41. N 20. P. 205204
  21. Mutaf-Yardimci O., Saveliev A.V., Fridman A.A., Kennedy L.A. // J. Appl. Phys. 2000. Vol. 87. N 4. P. 1632
  22. Du C.M., Yan J.H. // IEEE Tr. Plasma Sci. 2007. Vol. 35. N 6. P. 1648
  23. Sun Z.W., Zhu J.J., Li Z.S., Alden M., Leipold F., Salewski M., Kusano Y. // Opt. Express. 2013. Vol. 21. N 5. P. 6028
  24. Korolev Y.D., Frants O.B., Landl N.V., Geyman V.G., Suslov A.I. // Phys. Plasmas. 2017. Vol. 24. N 10. P. 103526
  25. Korolev Y.D., Frants O.B., Geyman V.G., Landl N.V., Kasyanov V.S. // IEEE Tr. Plasma Sci. 2011. Vol. 39. N 12. P. 3319
  26. vSperka J., Souvcek P., van Loon J.J.W.A., Dowson A., Schwarz C., Krause J., Kroesen G., Kudrle V. // Eur. Phys. J. D. 2013. Vol. 67. N 12. P. 261
  27. Potovcvnakova L., vSperka J., Zikan P., van Loon J.J.W.A., Beckers J., Kudrle V. // Plasma Sources Sci. T. 2017. Vol. 26. N 4. P. 045014
  28. Zhang L., Yang C., Mao Z.-S. // Chem. Eng. Sci. 2008. Vol. 63. N 8. P. 2099
  29. Архипов В.А., Васенин И.М., Усанина А.С. // ИФЖ. 2013. Т. 86. N 5. С. 1097

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель

© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme