"Журнал технической физики"
Издателям
Вышедшие номера
Влияние gamma-облучения на свойства структур SiO 2--GaAs
Бреза Ю.1, Диденко П.И.1, Конакова Р.В.1, Миленин В.В.1, Романова Г.Ф.1
1Словацкий технический университет, Братислава Институт физики полупроводников АН Украины,, Киев, Украина
Поступила в редакцию: 13 июля 1994 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 1995 г.

Исследованы физико-химические процессы в структурах SiO2--GaAs, изготовленных методами высокотемпературного разложения тетраэтоксисилана и осаждении из газовой смеси SiH4+O2+Ar, при обучении гамма-квантами 60Co в интервале доз 105-108 P. Показано, что радиационная деградация структуры SiO2--GaAs обусловлена межфазными взаимодействиями на границе раздела фаз.
  • Нестеренко Б.А., Миленин В.В., Наумовец А.А. и др. УФЖ. 1989. Т. 34. N 6. С. 899--904
  • Груша С.А., Конакова Р.В., Миленин В.В. и др. Электронная техника. Сер. 2. Полупроводниковые приборы. 1990. Вып. 5(208). С. 68--72
  • Вдовин В.И., Конакова Р.В., Миленин В.В. и др. Письма в ЖТФ. 1992. Т. 18. Вып. 16. С. 10--14
  • Арсенид галлия в микроэлектронике / Под ред. Н.Айнспрука, У.Уиссмена. М.: Мир, 1988. 555 с
  • Дмитрук Н.Л., Литовченко В.Г. ОПТ. 1983. Вып. 3. С. 13--22
  • Борковская О.Ю., Дмитрук Н.Л., Конакова Р.В. и др. Препринт Ин-та физики АН УССР. Киев, 1986. N 6. 68 с
  • Пархушик В.П., Лабунов В.А. Плазменное анодирование: Физика, техника, применение в микроэлектронике. Минск: Наука и техника, 1990. 280 с
  • Бреза Ю., Борковская О.Ю., Дмитрук Н.Л. и др. ЖТФ. 1992. Т. 62. С. 88--94
  • Фельдман Л., Майер Д. Основы анализа поверхности и тонких пленок. Пер. с англ. М.: Мир, 1989. 334 с
  • Ефремов А.А., Романова Г.Ф., Диденко П.И., Марченко Р.И. УФЖ. 1985. Т. 30. N 7. С. 1067--1075
  • Romanova G.Ph., Efremov A.A., Didenko P.I. SIMS-VI. Proc. of the 6^ th Intern. Conf. / Ed. by J.Willcy, S.Sons. New York; Toronto; Singapure: Chichester, 1988. P. 335--338
  • Wittmaack K. Nucl. Instr. and Meth. 1980. Vol. 68. N 1--3. P. 343--356
  • Куколев Г.В. Химия Si и физическая химия силикатов. М.: Высшая школа, 1966
  • Чистяков Ю.Д., Райнова Ю.П. Физико-химические основы технологии микроэлектроники. М.: Металлургия, 1979. 408 с
  • Колобов Н.А., Самохвалов М.М. Диффузия и окисление полупроводников. М.: Металлургия, 1975. 456 с
  • J. Electrochem. Soc. 1983. Vol. 130. N 4. P. 950--952
  • Ласкорин Б.Н. Сорбенты на основе силикагеля в радиохимии. Химические свойства. Применение. М.: Атомиздат, 1977. 304 с
  • Котов А.Г., Громов В.В. Радиационная физика и химия гетерогенных систем. М.: Энергоатомиздат, 1988. 232 с
  • Болтакс Б.И. Диффузия в полупроводниках. М.: Изд-во физ.-мат. лит., 1961. 462 с
  • Болтакс Б.И., Джафаров Г.Д. Арсенид галлия. Томск, 1975. Вып. 6. С. 129--139
  • Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

    Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.